基于硅基底微柱结构的超疏水表面的制备及其摩擦学性能研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-29页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·超疏水性表面基础理论 | 第13-21页 |
| ·接触角理论 | 第13-18页 |
| ·滚动角理论 | 第18-21页 |
| ·超疏水表面的制备方法 | 第21-27页 |
| ·超疏水表面的发展前景 | 第27页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第27-29页 |
| 2 超疏水表面制备 | 第29-39页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·超疏水表面形貌设计 | 第29-32页 |
| ·微柱结构参数设计 | 第32-33页 |
| ·硅基底超疏水表面基底制备 | 第33-35页 |
| ·设计并制作光刻板 | 第33-35页 |
| ·ICP刻蚀 | 第35页 |
| ·分子膜的制备 | 第35-38页 |
| ·硅片的清洗 | 第36页 |
| ·自组装分子膜的制备 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 3 超疏水表面润湿性研究 | 第39-55页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·微观粗糙结构对硅片表面润湿性的影响 | 第39-48页 |
| ·硅片表面化学元素检测 | 第39-40页 |
| ·硅片表面粗糙结构表征 | 第40-45页 |
| ·自组装OTS前硅片表面润湿性表征 | 第45-48页 |
| ·自组装OTS后硅片表面润湿性分析 | 第48-54页 |
| ·OTS分子膜的表征 | 第48-51页 |
| ·实验结果分析 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 4 OTS分子膜摩擦学性能分析 | 第55-65页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验设备 | 第55-57页 |
| ·实验方案 | 第57-58页 |
| ·实验结果分析 | 第58-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 5 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·论文总结 | 第65-66页 |
| ·未来工作展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 作者简历 | 第71-75页 |
| 学位论文数据集 | 第75页 |
