| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 前言 | 第9-29页 |
| ·青蒿素 | 第9-13页 |
| ·青蒿素的概述 | 第9页 |
| ·青蒿素的结构理化性质 | 第9-10页 |
| ·青蒿素的药用功能 | 第10-12页 |
| ·青蒿素的提取工艺 | 第12-13页 |
| ·分子印迹技术 | 第13-24页 |
| ·分子印迹技术的概述 | 第13-14页 |
| ·分子印迹技术的基本原理和方法 | 第14-16页 |
| ·制备分子印迹聚合物的原材料 | 第16-19页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第19-21页 |
| ·分子印迹聚合物性能的表征 | 第21页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第21-23页 |
| ·分子印迹技术面临的挑战及发展趋势 | 第23-24页 |
| ·超临界流体萃取技术 | 第24-28页 |
| ·概述 | 第24页 |
| ·超临界流体萃取技术的原理 | 第24-25页 |
| ·超临界萃取技术的工艺流程 | 第25-27页 |
| ·超临界CO2萃取技术的应用 | 第27-28页 |
| ·本论文的研究主要内容及目的意义 | 第28-29页 |
| 第2章 青蒿素的分析方法 | 第29-35页 |
| ·紫外分光光度法 | 第29-30页 |
| ·实验原理 | 第29页 |
| ·标准曲线的制备 | 第29-30页 |
| ·薄层层析(TLC)法 | 第30页 |
| ·高效液相色谱法(HPLC) | 第30-33页 |
| ·柱前衍生法 | 第30-31页 |
| ·直接测量法 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第3章 硅胶表面青蒿素分子印记聚合物的制备及表征 | 第35-54页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·实验材料 | 第35-37页 |
| ·实验试剂 | 第35-36页 |
| ·实验仪器 | 第36-37页 |
| ·实验方法 | 第37-42页 |
| ·单体杯[4]芳烃的制备 | 第37页 |
| ·功能化硅胶的制备 | 第37-40页 |
| ·印迹聚合物的制备 | 第40-41页 |
| ·分子印记聚合物的静态吸附性能 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-53页 |
| ·功能化硅胶的分析 | 第42-44页 |
| ·聚合体系对印迹聚合物的影响 | 第44-47页 |
| ·分子印记聚合物的表征 | 第47-49页 |
| ·印迹聚合物的静态吸附性能 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 青蒿素分子印记聚合物在超临界CO2中的吸附行为 | 第54-61页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验材料 | 第54-55页 |
| ·试验方法 | 第55-57页 |
| ·分子印记聚合物在超临界中CO_2的吸附动力学 | 第55-56页 |
| ·在超临界条件下的吸附等温线实验 | 第56页 |
| ·在超临界条件下的选择性实验 | 第56页 |
| ·PR方程在计算中的应用 | 第56-57页 |
| ·实验结果 | 第57-59页 |
| ·吸附动力学 | 第57-58页 |
| ·吸附等温线 | 第58-59页 |
| ·选择性实验 | 第59页 |
| ·小结 | 第59-61页 |
| 第5章 结论与展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 致谢 | 第66页 |