应用于准分子激光波面整形的二元光学元件的设计研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·微细加工技术 | 第8-9页 |
| ·准分子激光微细加工技术 | 第9-11页 |
| ·准分子激光 | 第9页 |
| ·准分子激光微细加工的特点 | 第9-10页 |
| ·准分子激光微细加工的方法 | 第10-11页 |
| ·准分子激光微细加工系统 | 第11页 |
| ·准分子激光均束的方法 | 第11-14页 |
| ·棱镜法 | 第11-12页 |
| ·反射镜法 | 第12页 |
| ·万花筒法 | 第12-13页 |
| ·柱面镜法 | 第13页 |
| ·复眼透镜阵列法 | 第13-14页 |
| ·试验室的准分子激光均束系统现状 | 第14-15页 |
| ·研究内容和目标 | 第15-18页 |
| 第2章 二元光学均束器的设计 | 第18-32页 |
| ·二元光学理论及相关推倒 | 第18-23页 |
| ·相关原理说明 | 第18-19页 |
| ·基于MATLAB~(?)软件的GS 算法 | 第19-20页 |
| ·仿真结果与分析 | 第20-23页 |
| ·菲涅尔波带透镜 | 第23-26页 |
| ·二元光学均匀器的参数选择 | 第26-28页 |
| ·设计参数与性能讨论 | 第26-28页 |
| ·二元光学均匀器焦平面模拟 | 第28页 |
| ·元件材料的选择与要求 | 第28-31页 |
| ·总结 | 第31-32页 |
| 第3章 二元光学均匀器的制作 | 第32-50页 |
| ·套刻掩模版的制作 | 第32-37页 |
| ·掩模版的设计 | 第32-35页 |
| ·掩模版的绘制 | 第35-37页 |
| ·光刻试验 | 第37-43页 |
| ·准备阶段 | 第37页 |
| ·光学曝光的方式与过程 | 第37-39页 |
| ·曝光参数试验 | 第39-41页 |
| ·问题及解决 | 第41-43页 |
| ·刻蚀试验 | 第43-47页 |
| ·反应离子深刻蚀技术 | 第43页 |
| ·刻蚀参数的确定 | 第43-44页 |
| ·第一版刻蚀效果 | 第44-45页 |
| ·第二版刻蚀效果 | 第45-46页 |
| ·第三版刻蚀效果 | 第46-47页 |
| ·总结 | 第47-50页 |
| 第4章 二元光学均匀器的检验 | 第50-62页 |
| ·二元光学元件的形貌 | 第50-53页 |
| ·元件照片 | 第50页 |
| ·显微镜下的照片 | 第50-51页 |
| ·电镜照片 | 第51-53页 |
| ·激光能量透过率的比较 | 第53页 |
| ·激光能量均匀性的比较 | 第53-56页 |
| ·误差分析 | 第56-58页 |
| ·试验效果 | 第58-60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士学位期间获得的学术成果 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
