| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-25页 |
| ·等离子体定义及分类 | 第10页 |
| ·冷等离子体技术 | 第10-17页 |
| ·冷等离子体技术概述 | 第10-11页 |
| ·介质阻挡放电 | 第11-17页 |
| ·OH、HO_2自由基的重要性 | 第17-20页 |
| ·等离子体中OH、HO_2活性物种的研究手段 | 第20-22页 |
| ·实验诊断 | 第20-21页 |
| ·数值模拟 | 第21-22页 |
| ·冷等离子体中产生的OH、HO_2的动力学研究进展 | 第22-23页 |
| ·本论文的研究目的和主要研究工作 | 第23-25页 |
| 2 实验装置和条件 | 第25-29页 |
| ·实验装置 | 第25页 |
| ·配气系统 | 第25-26页 |
| ·高压电源 | 第26页 |
| ·反应器和电极结构 | 第26页 |
| ·光腔衰荡光谱 | 第26-27页 |
| ·光腔衰荡光谱原理 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 理论模型 | 第29-44页 |
| ·介质阻挡放电过程 | 第29-30页 |
| ·化学动力学 | 第30-40页 |
| ·电子-分子反应速率常数 | 第30-31页 |
| ·化学反应方程式 | 第31-40页 |
| ·数学模型 | 第40-43页 |
| ·模型建立 | 第40页 |
| ·数值模拟方法 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 4 结果与讨论 | 第44-67页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·H_2O/He体系中OH(A~2∑~+)、OH(X~2Π)自由基的数值模拟 | 第44-55页 |
| ·电子能量分布函数 | 第44-45页 |
| ·体系中活性物种浓度随时间的变化 | 第45-47页 |
| ·OH(X~2Π)、OH(A~2∑~+)自由基浓度随H_2O含量的变化 | 第47-49页 |
| ·OH(X~2Π)、OH(A~2∑~+)自由基的浓度随O_2含量的变化 | 第49-50页 |
| ·OH(X~2Π)、OH(A~2∑~+)自由基的浓度随N_2含量的变化 | 第50-51页 |
| ·OH(X~2Π)、OH(A~2∑~+)自由基浓度随电子密度的变化 | 第51-52页 |
| ·OH(X~2Π)、OH(A~2∑~+)自由基浓度随放电电压的变化 | 第52-53页 |
| ·OH(X~2Π)、OH(A~2∑~+)自由基浓度随放电频率的变化 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| ·N_2/O_2/H_2O/HCHO体系中对OH、HO_2自由基的数值模拟 | 第55-67页 |
| ·电子能量分布函数 | 第55页 |
| ·体系中各物种浓度随时间的演变 | 第55-58页 |
| ·OH、HO_2自由基浓度随H_2O含量的变化 | 第58-60页 |
| ·OH、HO_2自由基浓度随O_2含量的变化 | 第60-61页 |
| ·OH、HO_2自由基浓度随HCHO含量的变化 | 第61-62页 |
| ·OH、HO_2自由基浓度随放电电压、频率的变化 | 第62-64页 |
| ·OH、HO_2自由基浓度随气体压力的变化 | 第64-65页 |
| ·小结 | 第65-67页 |
| 结论与展望 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
