聚合物光波导薄膜的制备及改性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| ·纳米材料的兴起及其改性高分子的理论基础 | 第9-10页 |
| ·高分子基纳米复合材料的主要制备手段 | 第10-13页 |
| ·插层法 | 第10-11页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第11-12页 |
| ·共混法 | 第12页 |
| ·原位聚合法 | 第12页 |
| ·纳米粒子直接分散法 | 第12页 |
| ·微乳液聚合法 | 第12-13页 |
| ·LB膜法 | 第13页 |
| ·PMMA聚合物的结构特点及其改性原理 | 第13-14页 |
| ·集成光学及光波导技术概述 | 第14-16页 |
| ·平面光波导理论 | 第15-16页 |
| ·光波导的包层和芯层的材料匹配 | 第16-18页 |
| ·PMMA芯层材料的基本参数 | 第16-17页 |
| ·外包层材料的选择 | 第17-18页 |
| ·聚合物薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·薄膜光波导器件的成型方法 | 第19-22页 |
| ·光刻及光漂白技术 | 第19-21页 |
| ·离子注入、电子束照射及离子交换技术 | 第21-22页 |
| ·本课题选题的目的和意义 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-29页 |
| 第二章 实验原料与性能表征手段 | 第29-32页 |
| ·制备PMMA改性聚合物薄膜的实验原料 | 第29-30页 |
| ·原料试剂 | 第29页 |
| ·承载聚合物薄膜的基片 | 第29-30页 |
| ·薄膜制备实验中使用的仪器 | 第30页 |
| ·聚合物材料及其薄膜的性能表征方法 | 第30-32页 |
| 第三章 PMMA/SiO_2改性薄膜的制备和表征 | 第32-47页 |
| ·掺杂纳米二氧化硅的散射模型分析 | 第32-34页 |
| ·PMMA/SiO2改性薄膜的制备 | 第34-35页 |
| ·实验结果与讨论 | 第35-43页 |
| ·薄膜显微结构观察 | 第35-39页 |
| ·薄膜的光学性质分析 | 第39-43页 |
| ·薄膜折射率变化分析 | 第43-44页 |
| ·耐热性分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 PMMA/DR1改性薄膜的制备与表征 | 第47-58页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·实验过程 | 第48页 |
| ·实验结果与讨论 | 第48-56页 |
| ·薄膜样品的微观形貌分析 | 第48-51页 |
| ·PMMA/DR1的XRD谱 | 第51-52页 |
| ·光学性质分析 | 第52-53页 |
| ·耐热性分析 | 第53-54页 |
| ·二阶非线性效应的测定 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第五章 PMMA/SiO2/DR1的制备和表征 | 第58-73页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验过程 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-71页 |
| ·微观形貌分析 | 第59-67页 |
| ·光学性质分析 | 第67-70页 |
| ·热性质分析 | 第70页 |
| ·二阶非线性效应的测定 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-73页 |
| 第六章 光波导器件的制备和光学性能 | 第73-82页 |
| ·光波导器件的结构 | 第73-74页 |
| ·电极的制作 | 第74-77页 |
| ·脊型波导的制作 | 第77-79页 |
| ·平面光波导传输情况的测量 | 第79-80页 |
| ·脊型光波导损耗的测量 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-82页 |
| 第七章 PMMA掺杂机理探讨 | 第82-89页 |
| ·引言 | 第82页 |
| ·SiO2掺杂PMMA的光散射机理 | 第82-85页 |
| ·DR1掺杂PMMA的电晕极化机理 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 第八章 结论 | 第89-90页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
