| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 插图索引 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·纳米材料简介 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的特殊效应及分类 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的特殊效应 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的分类 | 第13页 |
| ·分子模拟 | 第13-14页 |
| ·分子动力学模拟 | 第14-16页 |
| ·金属纳米丝力学行为研究背景 | 第16-17页 |
| ·薄膜生长过程的计算机模拟 | 第17-18页 |
| ·本文研究的目的、内容和意义 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 分子动力学模拟及 LAMMPS | 第21-35页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·分子动力学的基本方程 | 第22页 |
| ·分子动力学算法 | 第22-23页 |
| ·原子间的相互作用势 | 第23-25页 |
| ·对势 | 第23-24页 |
| ·镶嵌原子势(EAM) | 第24-25页 |
| ·周期性边界条件 | 第25-26页 |
| ·系综概述 | 第26-27页 |
| ·系统约束的方法 | 第27-29页 |
| ·温度控制方法 | 第27-28页 |
| ·压力(应力)控制方法 | 第28-29页 |
| ·各物理量的计算方法 | 第29-30页 |
| ·分子动力学模拟计算机实现现状分析 | 第30-31页 |
| ·LAMMPS简介 | 第31-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 铜纳米丝拉伸力学性能的模拟 | 第35-49页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·模型及模拟的细节 | 第35-38页 |
| ·系综及控温手段的选择 | 第35-36页 |
| ·原子势函数的选择 | 第36页 |
| ·模型的建立及弛豫过程 | 第36-37页 |
| ·拉伸的加载过程 | 第37-38页 |
| ·铜纳米丝拉伸过程模拟结果及分析 | 第38-40页 |
| ·应变速率对铜纳米丝拉伸性能的影响 | 第40-42页 |
| ·温度对铜纳米丝拉伸性能的影响 | 第42-43页 |
| ·拉伸晶向对铜纳米丝拉伸性能的影响 | 第43-46页 |
| ·截面尺寸对铜纳米丝拉伸性能的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 载能 Al 原子在 Cu 基底上沉积过程的模拟 | 第49-62页 |
| ·概述 | 第49-51页 |
| ·模型及模拟的细节 | 第51-53页 |
| ·模型中的基本近似 | 第51页 |
| ·势函数的选取 | 第51-52页 |
| ·基底的模型 | 第52页 |
| ·沉积的过程 | 第52-53页 |
| ·单个入射原子在薄膜表面的行为 | 第53-55页 |
| ·沉积过程的模拟结果及分析 | 第55-58页 |
| ·沉积能量对薄膜沉积过程的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第五章 总结及展望 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录 | 第65页 |