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基于微磁有限元的垂直磁化膜磁化过程研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
1 绪论第9-16页
   ·引言第9-10页
   ·垂直磁记录的研究概况第10-11页
   ·微磁学及其与数值方法结合的发展概况第11-14页
   ·本文研究的内容和意义第14-16页
2 垂直磁化膜微磁有限元计算模型的建立第16-29页
   ·垂直磁化膜记录信息的特点第16-17页
   ·垂直磁化膜成膜过程第17-18页
   ·垂直磁化膜颗粒模型的研究与建立第18-23页
   ·垂直磁化膜有限元计算模型的实现第23-28页
   ·本章小结第28-29页
3 垂直磁化膜磁化过程模拟的数值计算方法第29-45页
   ·引言第29-30页
   ·垂直磁化膜总能量计算第30-34页
   ·磁化过程的微磁计算方法第34-37页
   ·磁化状态微磁有限差分方法第37-39页
   ·磁化状态微磁有限元计算方法第39-43页
   ·本章小结第43-45页
4 计算平台的建立与仿真第45-65页
   ·模拟软件库及运行环境第45-47页
   ·程序结构第47页
   ·Magpar 并行计算的实现与仿真第47-51页
   ·仿真结果与分析第51-64页
   ·本章小结第64-65页
5 全文总结第65-69页
致谢第69-70页
参考文献第70-74页

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