基于微磁有限元的垂直磁化膜磁化过程研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·垂直磁记录的研究概况 | 第10-11页 |
| ·微磁学及其与数值方法结合的发展概况 | 第11-14页 |
| ·本文研究的内容和意义 | 第14-16页 |
| 2 垂直磁化膜微磁有限元计算模型的建立 | 第16-29页 |
| ·垂直磁化膜记录信息的特点 | 第16-17页 |
| ·垂直磁化膜成膜过程 | 第17-18页 |
| ·垂直磁化膜颗粒模型的研究与建立 | 第18-23页 |
| ·垂直磁化膜有限元计算模型的实现 | 第23-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 垂直磁化膜磁化过程模拟的数值计算方法 | 第29-45页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·垂直磁化膜总能量计算 | 第30-34页 |
| ·磁化过程的微磁计算方法 | 第34-37页 |
| ·磁化状态微磁有限差分方法 | 第37-39页 |
| ·磁化状态微磁有限元计算方法 | 第39-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 4 计算平台的建立与仿真 | 第45-65页 |
| ·模拟软件库及运行环境 | 第45-47页 |
| ·程序结构 | 第47页 |
| ·Magpar 并行计算的实现与仿真 | 第47-51页 |
| ·仿真结果与分析 | 第51-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 5 全文总结 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |