| 中文摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-30页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第8页 |
| ·国内外同类课题研究现状及发展趋势 | 第8-9页 |
| ·TiO_2 光催化剂的合成方法 | 第9-15页 |
| ·液相法 | 第10-13页 |
| ·气相法 | 第13-15页 |
| ·纳米TiO_2 的改性研究进展 | 第15-19页 |
| ·贵金属修饰 | 第15-16页 |
| ·金属离子的掺杂 | 第16-17页 |
| ·非金属离子的掺杂 | 第17页 |
| ·表面光敏化 | 第17-18页 |
| ·复合半导体 | 第18页 |
| ·采用有机物吸附剂 | 第18-19页 |
| ·其它因素影响 | 第19页 |
| ·二氧化钛光催化作用机理 | 第19-24页 |
| ·纳米TiO_2 光催化材料的应用 | 第24-28页 |
| ·基于半导体性质和电学特性的应用领域 | 第24-25页 |
| ·基于紫外屏蔽特性和可见光透明性的应用领域 | 第25-26页 |
| ·基于光催化性质的应用领域 | 第26-27页 |
| ·基于颜色效应的应用领域 | 第27-28页 |
| ·基于纳米TiO_2 的表面超双亲性和表面超疏水性的应用 | 第28页 |
| ·课题的提出和研究内容 | 第28-29页 |
| ·课题来源 | 第29-30页 |
| 第2章 实验材料和表征方法 | 第30-42页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第30-31页 |
| ·实验试剂 | 第30页 |
| ·实验仪器及设备 | 第30-31页 |
| ·材料表征方法 | 第31-33页 |
| ·分解及晶型转化温度的测定 | 第31页 |
| ·晶型结构的测定 | 第31-32页 |
| ·光学性能测试 | 第32页 |
| ·表面的组成、结构和化学态测试 | 第32-33页 |
| ·表面光电压谱原理 | 第33-37页 |
| ·表面光电压谱装置 | 第33-34页 |
| ·表面光电压谱基本原理 | 第34-37页 |
| ·光催化性能测试 | 第37-38页 |
| ·交流阻抗谱 | 第38-42页 |
| ·交流阻抗法简介 | 第38-39页 |
| ·交流阻抗谱测试装置 | 第39-40页 |
| ·FRD 工作原理 | 第40-41页 |
| ·二氧化钛薄膜电极的Mott-Schottky曲线测试结果分析 | 第41-42页 |
| 第3章 铜改性二氧化钛的制备及改性机制研究 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·溶胶-凝胶法制备TiO_2 的热处理条件研究 | 第42-47页 |
| ·溶胶－凝胶的制备 | 第43-44页 |
| ·铜掺杂二氧化钛干凝胶粉热分析 | 第44页 |
| ·X-射线衍射分析（XRD） | 第44-47页 |
| ·光催化剂的表征 | 第47-52页 |
| ·漫反射分析 | 第47-48页 |
| ·XPS 测试 | 第48-50页 |
| ·SPS 测试 | 第50-52页 |
| ·光催化性能评价 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 锡改性二氧化钛的制备及改性机制研究 | 第54-69页 |
| ·引言 | 第54-58页 |
| ·催化剂的合成 | 第58-59页 |
| ·锡还原二氧化钛纳米粒子的合成 | 第58页 |
| ·氢还原二氧化钛光催化剂的制备 | 第58-59页 |
| ·光催化剂的表征 | 第59-65页 |
| ·X-射线衍射分析（XRD） | 第59页 |
| ·电子能谱分析（EDS） | 第59-60页 |
| ·XPS测试 | 第60-62页 |
| ·DRS测试 | 第62-63页 |
| ·SPS测试 | 第63-65页 |
| ·EIS测试 | 第65页 |
| ·光催化性能评价 | 第65-68页 |
| ·SnCl_2 浓度及浸渍时间对光催化活性的影响 | 第65-67页 |
| ·Sn 还原对TiO_2 光催化活性的影响 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第83-84页 |