聚合物成型中熔体充填过程的Level Set方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·工程背景及研究意义 | 第9-10页 |
| ·熔接线分析 | 第10-13页 |
| ·熔接线的形成和特征 | 第10-12页 |
| ·熔接线的影响因素 | 第12页 |
| ·熔接线位置预测 | 第12-13页 |
| ·充填流动模拟的发展过程 | 第13-15页 |
| ·本文的工作 | 第15-17页 |
| 第二章 聚合物充填过程的描述 | 第17-25页 |
| ·熔体充模流动的物理过程 | 第17页 |
| ·充填过程的数学描述 | 第17-18页 |
| ·粘度模型 | 第18-21页 |
| ·幂律模型 | 第19-20页 |
| ·Cross-exp模型 | 第20-21页 |
| ·充填过程熔体流动的控制方程 | 第21-25页 |
| ·流动控制方程 | 第21-23页 |
| ·型腔厚度方向上的边界条件 | 第23-24页 |
| ·流动方向上的边界条件 | 第24-25页 |
| 第三章 Level set界面追踪方法 | 第25-32页 |
| ·界面追踪方法概述 | 第25-27页 |
| ·活动界面追踪问题的回顾 | 第25-26页 |
| ·现代运动界面追踪方法 | 第26-27页 |
| ·描述界面运动的Level set方法 | 第27-29页 |
| ·带重新初始化的Level set方法 | 第29-30页 |
| ·求解步骤 | 第30-32页 |
| 第四章 Level set方程的数值离散 | 第32-41页 |
| ·ENO与WENO格式 | 第32-37页 |
| ·ENO的基本思想 | 第32-33页 |
| ·模板的自适应选择 | 第33-35页 |
| ·WENO格式 | 第35-37页 |
| ·TVD-Runge-Kutta方法 | 第37页 |
| ·重新初始化的数值实现 | 第37-39页 |
| ·比较算例 | 第39-41页 |
| 第五章 熔体充填过程的数值模拟及其离散求解 | 第41-53页 |
| ·问题的提出 | 第41页 |
| ·压力场及速度场的确定 | 第41-43页 |
| ·数值模拟 | 第43-53页 |
| 第六章 总结与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
