透明的高导电近红外反射ZnO：Ga薄膜的制备及特性研究

摘要	第1-8页
Abstract	第8-11页
第一章 前言	第11-13页
第二章 文献综述	第13-40页
·透明导电氧化物薄膜的种类及研究现状	第14-29页
·SnO_2基透明导电薄膜	第14-15页
·In_2O_3基透明导电薄膜	第15-16页
·ZnO基透明导电薄膜	第16-28页
·其它透明导电氧化物薄膜	第28-29页
·透明导电氧化物薄膜的应用	第29-33页
·透明电极	第29-30页
·电磁屏蔽和防静电膜	第30-31页
·面发热膜	第31页
·电致变色窗	第31-32页
·气敏传感器	第32页
·触摸屏	第32-33页
·红外隐身材料与热红外反射镜	第33页
·透明导电氧化物薄膜的制备技术	第33-37页
·磁控溅射	第34页
·真空蒸发镀膜	第34页
·脉冲激光沉积	第34-35页
·离子镀	第35页
·化学气相沉积	第35-36页
·溶胶凝胶	第36页
·喷雾热解	第36页
·分子束外延	第36-37页
·本文的选题依据和研究内容	第37-40页
第三章 直流反应磁控溅射原理和实验过程	第40-50页
·直流反应磁控溅射原理	第40-45页
·辉光放电原理	第40-42页
·溅射粒子的能量	第42-43页
·直流反应磁控溅射原理	第43-45页
·实验过程	第45-48页
·实验设备	第45-46页
·靶材的制备	第46-47页
·衬底及其清洗	第47页
·薄膜的制备过程	第47-48页
·性能评价	第48-50页
第四章 ZnO:Ga薄膜的特性分析	第50-102页
·Ga含量对ZnO:Ga薄膜特性的影响	第50-64页
·Ga含量对ZnO:Ga薄膜成分和结构性能的影响	第51-55页
·Ga含量对ZnO:Ga薄膜电学性能的影响	第55-56页
·Ga含量对ZnO:Ga薄膜光学性能的影响	第56-62页
·小结	第62-64页
·衬底温度对ZnO:Ga薄膜特性的影响	第64-73页
·衬底温度对ZnO:Ga薄膜结构特性的影响	第64-68页
·衬底温度对ZnO:Ga薄膜化学特性的影响	第68-69页
·衬底温度对ZnO:Ga薄膜的电学性能的影响	第69-70页
·衬底温度对ZnO:Ga薄膜的光学性能的影响	第70-72页
·小结	第72-73页
·沉积压强对ZnO:Ga薄膜特性的影响	第73-81页
·沉积压强对ZnO:Ga薄膜结构性能的影响	第73-76页
·沉积压强对ZnO:Ga薄膜电学性能的影响	第76-77页
·沉积压强对ZnO:Ga薄膜光学性能的影响	第77-79页
·小结	第79-81页
·氧分压对ZnO:Ga薄膜特性的影响	第81-88页
·氧分压对znO:Ga薄膜结构性能的影响	第81-83页
·氧分压对ZnO:Ga薄膜电学性能的影响	第83-84页
·氧分压对ZnO:Ga薄膜光学性能的影响	第84-87页
·小结	第87-88页
·溅射功率对ZnO:Ga薄膜特性的影响	第88-96页
·溅射功率对ZnO:Ga薄膜结构性能的影响	第88-91页
·溅射功率对ZnO:Ga薄膜电学性能的影响	第91-92页
·溅射功率对ZnO:Ga薄膜光学性能的影响	第92-94页
·小结	第94-96页
·退火温度对ZnO:Ga薄膜特性的影响	第96-102页
·退火温度对ZnO:Ga薄膜结构性能的影响	第96-97页
·退火温度对znO:Ga薄膜电学性能的影响	第97-98页
·退火温度对ZnO:Ga薄膜光学性能的影响	第98-100页
·小结	第100-102页
第五章 ZnMgO:Ga薄膜的制备及特性分析	第102-110页
·引言	第102页
·实验过程	第102-103页
·Mg含量对ZnMgO:Ga薄膜结构特性的影响	第103-105页
·Mg含量对ZnMgO:Ga薄膜表面化学态的影响	第105-106页
·Mg含量对ZnMgO:Ga薄膜电学特性的影响	第106-108页
·Mg含量对ZnMgO:Ga薄膜光学特性的影响	第108-109页
·小结	第109-110页
第六章 结论	第110-113页
第七章 应用前景与展望	第113-115页
参考文献	第115-125页
致谢	第125-126页
作者博士期间发表的论文和申请的专利	第126-128页