| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·多铁材料 | 第11-14页 |
| ·多铁材料的定义 | 第12页 |
| ·磁电耦合效应 | 第12-13页 |
| ·磁电多铁材料的分类 | 第13-14页 |
| ·单相多铁材料BiFeO_3 | 第14-18页 |
| ·BiFeO_3 的结构 | 第15页 |
| ·BiFeO_3 的性能 | 第15-16页 |
| ·BiFeO_3 的研究现状 | 第16-18页 |
| ·锰基钙钛矿材料 | 第18-19页 |
| ·锰基钙钛矿材料的结构 | 第18页 |
| ·锰基钙钛矿材料的性能 | 第18-19页 |
| ·锰基钙钛矿巨磁阻材料的研究的现状 | 第19页 |
| ·Re1-xAxMnO_3 的再掺杂 | 第19页 |
| ·低场磁电阻(LFMR) | 第19页 |
| ·研究的目的及意义 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-26页 |
| 第二章 实验及原理 | 第26-37页 |
| ·薄膜的沉积原理 | 第26-28页 |
| ·形核生长简介 | 第26页 |
| ·形成薄膜的三种模式 | 第26-27页 |
| ·形核与生长的物理过程 | 第27-28页 |
| ·连续薄膜的形成 | 第28页 |
| ·射频磁控溅射的基本知识 | 第28-31页 |
| ·射频磁控溅射的原理 | 第28-29页 |
| ·溅射过程 | 第29-30页 |
| ·射频磁控溅射（RF- magnetron sputtering）的优点 | 第30页 |
| ·本文所用射频磁控溅射设备介绍 | 第30-31页 |
| ·衬底的清洗方法 | 第31页 |
| ·样品的测试和分析方法 | 第31-36页 |
| ·晶相结构分析 | 第31-32页 |
| ·薄膜的厚度测量 | 第32-33页 |
| ·薄膜的表面形貌及成分分析 | 第33-34页 |
| ·电学性质测量 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3与BiFeO_3多层膜的制备与研究 | 第37-48页 |
| ·材料介绍 | 第37-39页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3 概述 | 第37-38页 |
| ·BiFeO_3 概述 | 第38-39页 |
| ·La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3、BiFeO_3 单层膜工艺参数的确定 | 第39-43页 |
| ·多层薄膜的表征 | 第43-45页 |
| ·XRD 表征 | 第43-44页 |
| ·AFM 表征 | 第44页 |
| ·TEM 表征 | 第44-45页 |
| ·成膜速率测算 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第四章 不同亚层BiFeO_3/La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3多层薄膜的性质 | 第48-63页 |
| ·多层膜概述 | 第48页 |
| ·多层薄膜的制备 | 第48-50页 |
| ·实验方法 | 第48-49页 |
| ·周期厚度的控制 | 第49-50页 |
| ·多层膜的电性能研究 | 第50-59页 |
| ·电性能测试方法 | 第50-51页 |
| ·不同子层厚度的电滞回线分析 | 第51-52页 |
| ·不同子层薄膜的电阻—温度曲线分析 | 第52-56页 |
| ·不同子层的电诱导现象分析 | 第56页 |
| ·不同子层的电流—电压曲线分析 | 第56-59页 |
| ·热处理的影响 | 第59-60页 |
| ·PL 测试 | 第60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第五章 掺杂对BiFeO_3/La_(0.7)Sr_(0.3)M1103多层薄膜的影响 | 第63-69页 |
| ·掺杂概述 | 第63页 |
| ·掺杂样品的制备 | 第63页 |
| ·电性能的测试方法 | 第63-65页 |
| ·电滞回线 | 第64页 |
| ·掺杂样品的电诱导现象分析 | 第64-65页 |
| ·掺杂样品的电流—电压曲线分析 | 第65页 |
| ·热处理的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小节 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第六章 结论及展望 | 第69-72页 |
| ·结论 | 第69页 |
| ·展望 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 硕士期间完成的论文 | 第73页 |
