| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-18页 |
| ·ZnO 材料的基本性质 | 第7-8页 |
| ·ZnO 材料的研究进展 | 第8-15页 |
| ·当前ZnO 材料研究中存在的主要问题 | 第15-18页 |
| 第二章 分子束外延设备及分子束外延动力原理 | 第18-28页 |
| ·分子束外延技术介绍 | 第18-21页 |
| ·分子束外延动力原理 | 第21-28页 |
| 第三章 常用样品表征手段及其原理 | 第28-45页 |
| ·反射式高能电子衍射（RHEED） | 第28-32页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第32-34页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第34-36页 |
| ·电子显微镜技术 | 第36-39页 |
| ·X 射线光发射谱（XPS） | 第39-40页 |
| ·微区光致发光谱（PL） | 第40-41页 |
| ·光吸收谱( Adsorption Spectra) | 第41-43页 |
| ·霍尔效应( Hall Effect) | 第43-45页 |
| 第四章 高质量ZnO 及弱P 型的制备和结构表征 | 第45-58页 |
| ·高质量ZnO 薄膜的制备及表面形貌表征 | 第46-49页 |
| ·N 掺杂P 型ZnO 薄膜的制备及其表征 | 第49-52页 |
| ·富锌条件下N 掺杂ZnO 薄膜的制备及表征 | 第52-58页 |
| 第五章 对弱P 型ZnO 物理机制的分析 | 第58-69页 |
| ·国际上对P 型ZnO 机理的分析 | 第58-59页 |
| ·非掺杂ZnO 薄膜和N 掺杂ZnO 薄膜光学特性分析 | 第59-63页 |
| ·非掺杂ZnO 薄膜和N 掺杂ZnO 薄膜的电学特性分析 | 第63-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-70页 |
| 作者简介 | 第70页 |
| 攻读硕士期间承担的主要工作 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
