综述 | 第1-13页 |
1 低能离子生物学的发展 | 第9-10页 |
·低能离子生物学产生 | 第9页 |
·低能离子作用机理 | 第9-10页 |
·低能离子束生物学的应用 | 第10页 |
2 饲用酶的研究 | 第10-13页 |
·国际饲用酶的发展 | 第10-11页 |
·国内饲用酶的发展 | 第11页 |
·饲用酶制剂的种类 | 第11-12页 |
·饲用酶制剂的发展趋势与前景 | 第12-13页 |
引言 | 第13-14页 |
材料与方法 | 第14-25页 |
1 材料 | 第14-15页 |
·出发菌株 | 第14页 |
·溶液与试剂 | 第14-15页 |
·仪器 | 第15页 |
·培养基 | 第15页 |
2 方法 | 第15-25页 |
·高产菌株筛选流程 | 第16-17页 |
·筛选谱系 | 第17页 |
·菌株的分离纯化 | 第17页 |
·酶活测定 | 第17-19页 |
·测定三种酶酶活的标准曲线绘制 | 第19-22页 |
·离子注入 | 第22页 |
·紫外线照射 | 第22页 |
·菌种筛选方法 | 第22页 |
·粗酶液的制备 | 第22-23页 |
·孢子存活率的测定 | 第23页 |
·孢子突变率的测定 | 第23页 |
·扫描显微电镜(SEM)观察样品制备 | 第23页 |
·电子顺磁共振(ESR)测定 | 第23页 |
·培养基正交试验设计 | 第23-24页 |
·生物量的测定 | 第24-25页 |
结果与分析 | 第25-41页 |
1 N~+注入黑曲霉的生物学效应 | 第25-27页 |
·低能N~+注入对黑曲霉孢子刻蚀损伤显微观察 | 第25-26页 |
·低能N~+注入对黑曲霉孢子内自由基含量的影响 | 第26页 |
·真空对黑曲霉孢子存活率的影响 | 第26-27页 |
2 低能离子注入诱变参数的确定 | 第27-29页 |
·N~+注入能量对孢子存活率和正突变率的影响 | 第27-28页 |
·N~+注入剂量对孢子存活率和正突变率的影响 | 第28-29页 |
·紫外线照射对孢子的存活率和正突变率的影响 | 第29页 |
3 复合酶菌株黑曲霉的诱变和选育 | 第29-30页 |
·筛选结果 | 第29页 |
·黑曲霉变异菌株ANO_2产酶稳定性研究 | 第29-30页 |
4 黑曲霉变异菌株 ANO_2产酶发酵优化 | 第30-39页 |
·黑曲霉变异菌株ANO_2产酶发酵培养基优化 | 第30-31页 |
·黑曲霉变异菌株ANO_2产酶发酵培养条件优化 | 第31-35页 |
·培养基正交试验 | 第35-39页 |
5. 菌株生物学特性的研究 | 第39-41页 |
·菌株形态观察 | 第39页 |
·原菌株ANO_1和变异菌株ANO_2发酵过程中生物量变化 | 第39-41页 |
讨论 | 第41-49页 |
1. N~+注入黑曲霉的生物学效应 | 第41-42页 |
·低能N~+注入对黑曲霉孢子刻蚀损伤显微观察 | 第41页 |
·低能N~+注入对黑曲霉孢子内自由基含量的影响 | 第41页 |
·靶室真空时间对孢子存活率的影响 | 第41-42页 |
2 低能离子注入诱变参数的确定 | 第42-45页 |
·N~+注入能量对孢子存活率和正突变率的影响 | 第43页 |
·子注入剂量对孢子存活率和正突变率的影响 | 第43-44页 |
·紫外线照射存活曲线和正突变率的影响 | 第44-45页 |
3. 复合酶菌株黑曲霉的诱变和选育 | 第45页 |
4. 黑曲霉变异菌株ANO_2产酶发酵优化 | 第45-48页 |
·黑曲霉变异菌株ANO_2产酶发酵培养基优化 | 第45-46页 |
·黑曲霉变异菌株ANO_2产酶发酵培养条件优化 | 第46-48页 |
5. 菌株生物学特性的研究 | 第48-49页 |
·菌株形态观察 | 第48页 |
·原菌株ANO_1和变异菌株ANO_2发酵过程中生物量变化 | 第48-49页 |
结论 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-58页 |
致谢和作者简介 | 第58-59页 |