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锗碲基相变磁性材料的制备及性能研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
1 绪论第12-28页
   ·引言第12-13页
   ·相变存储材料第13-19页
   ·稀磁半导体第19-23页
   ·相变磁性材料第23-25页
   ·本文的研究内容及结构安排第25-28页
2 相变磁性材料的制备第28-55页
   ·引言第28-29页
   ·相变磁性材料的基体材料GeTe薄膜制备第29-32页
   ·GeTe薄膜的结构特征第32-47页
   ·相变磁性材料Ge_(1-x)Fe_xTe薄膜的制备第47-53页
   ·本章小结第53-55页
3 相变磁性材料相结构和磁性行为第55-79页
   ·引言第55-56页
   ·相变磁性材料的相结构第56-66页
   ·相变磁性材料的磁性行为第66-77页
   ·本章小结第77-79页
4 相变磁性材料的磁性起源及相变调控磁性第79-103页
   ·引言第79-80页
   ·相变磁性材料Ge_(1-x)Fe_xTe薄膜的电输运特性第80-83页
   ·相变磁性材料Ge_(1-x)Fe_xTe薄膜的磁性起源第83-92页
   ·相变磁性材料的相变调控磁性第92-100页
   ·本章小结第100-103页
5 相变磁性材料外延薄膜第103-121页
   ·引言第103-104页
   ·脉冲激光沉积制备外延单晶Ge_(1-x)Fe_xTe相变磁性材料第104-113页
   ·MgO单晶衬底上外延α和β相的Ge_(1-x)Fe_xTe相变磁性材料第113-119页
   ·本章小结第119-121页
6 全文总结第121-126页
   ·研究内容总结第121-125页
   ·对进一步研究的展望第125-126页
致谢第126-127页
参考文献第127-138页
附录 攻读博士学位期间发表的论文目录第138页

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