第一章 前言 | 第1-17页 |
1.1 理论的研究进展 | 第10-14页 |
1.2 实验的研究进展 | 第14-15页 |
1.3 本文的研究目的 | 第15-17页 |
第二章 正电子湮没技术原理和实验方法 | 第17-29页 |
2.1 概述 | 第17页 |
2.2 空位型缺陷对正电子的捕获 | 第17-18页 |
2.3 正电子寿命谱仪 | 第18-19页 |
2.4 正电子两态捕获模型 | 第19-22页 |
2.5 正电子寿命谱分析 | 第22-23页 |
2.6 均匀电子气系统中的正电子湮没率与电子密度 | 第23-25页 |
2.7 正电子湮没辐射 Doppler展宽 | 第25-29页 |
第三章 合金元素在 NiAl合金中的行为 | 第29-47页 |
3.1 引言 | 第29-33页 |
3.2 二元 NiAl合金的3d电子行为 | 第33-36页 |
3.2.1 实验方法 | 第33页 |
3.2.2 结果与讨论 | 第33-36页 |
3.2.3 小结 | 第36页 |
3.3 Cr和 Co对 NiAl合金3d电子的影响 | 第36-40页 |
3.3.1 实验方法 | 第36-37页 |
3.3.2 结果与讨论 | 第37-39页 |
3.3.3 小结 | 第39-40页 |
3.4 化学成分及合金元素对 Ni-Al合金中微观缺陷和电子密度的影响 | 第40-47页 |
3.4.1 实验方法 | 第40-41页 |
3.4.2 结果与讨论 | 第41-45页 |
3.4.3 小结 | 第45-47页 |
第四章 硼对 Ni_3Al合金3d电子的影响 | 第47-53页 |
4.1 引言 | 第47-48页 |
4.2 实验方法 | 第48-49页 |
4.3 结果与讨论 | 第49-52页 |
4.4 小结 | 第52-53页 |
第五章 结论 | 第53-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
硕士期间论文发表情况 | 第62-63页 |