摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
·概述 | 第10-20页 |
·γ-TiAl的基本特性 | 第10-12页 |
·变形机理 | 第12-13页 |
·微结构成形 | 第13-14页 |
·微观结构的类型 | 第14-15页 |
·微观结构与性能之间的关系 | 第15-19页 |
·合金元素对钛铝合金性能的影响 | 第19-20页 |
·TiAl合金的研究现状 | 第20-23页 |
·本研究的目的和意义 | 第23-25页 |
第二章 正电子湮没技术原理和实验方法 | 第25-38页 |
·概述 | 第25页 |
·空位缺陷对正电子的捕获 | 第25-26页 |
·正电子寿命谱仪 | 第26-27页 |
·正电子两态捕获模型 | 第27-30页 |
·正电子寿命谱分析 | 第30-31页 |
·正电子湮没率与电子密度 | 第31-33页 |
·均匀电子气系统中的正电子湮没率 | 第31-33页 |
·非均匀电子系统中的正电子湮没率 | 第33页 |
·正电子湮没辐射Doppler展宽 | 第33-38页 |
第三章 在TiAl合金中添加第四周期元素 | 第38-48页 |
·引言 | 第38-40页 |
·实验方法 | 第40-42页 |
·结果和讨论 | 第42-48页 |
·二元TiAl合金 | 第42-43页 |
·第四周期纯金属元素的商谱 | 第43-45页 |
·在TiAl合金中添加V,Cr,Mn,Cu | 第45-48页 |
第四章 在TiAI合金中添加第五周期元素 | 第48-53页 |
·引言 | 第48页 |
·实验方法 | 第48-49页 |
·实验结果和讨论 | 第49-51页 |
·小结 | 第51-53页 |
第五章 用正电子湮没寿命谱研究掺V和Ag的TiAl合金中的缺陷和电子密度 | 第53-59页 |
·引言 | 第53页 |
·实验方法 | 第53-54页 |
·结果和讨论 | 第54-58页 |
·结论 | 第58-59页 |
第六章 总结 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第64页 |