第一章 绪论 | 第1-26页 |
§1.1 超硬纳米结构涂层的起源 | 第8-11页 |
§1.2 纳米复合膜和纳米多层膜的发展现状 | 第11-22页 |
§1.2.1 纳米复合膜 | 第11-17页 |
§1.2.2 纳米多层膜 | 第17-22页 |
§1.3 Cr-Si-N纳米结构涂层 | 第22-24页 |
§1.4 本论文的选题依据及论文研究的主要内容 | 第24-26页 |
第二章 磁控溅射方法制备CrN/SiNx纳米多层膜 | 第26-36页 |
§2.1 磁控溅射方法的工作原理 | 第26-32页 |
§2.2 磁控溅射沉积CrN/SiNx纳米多层膜的实验条件 | 第32-35页 |
§2.3 用于CrN/SiNx多层膜样品表征的仪器设备简介 | 第35-36页 |
第三章 沉积条件对CrN/SiNx多层膜周期结构、物相、表面形貌的影响 | 第36-64页 |
§3.1 CrN/SiNx多层膜调制周期及沉积率的测定 | 第36-43页 |
§3.2 溅射压强对CrN/SiNx纳米多层膜的影响 | 第43-51页 |
§3.3 衬底偏压对CrN/SiNx多层膜的影响 | 第51-58页 |
§3.4 衬底温度对CrN/SiNx多层膜的影响 | 第58-62页 |
§3.5 小结 | 第62-64页 |
第四章 CrN/SiNx多层膜的界面融混及热稳定性研究 | 第64-78页 |
§4.1 CrN/SiNx多层膜的界面融混情况 | 第64-69页 |
§4.2 CrN/SiNx多层膜的热稳定性研究 | 第69-76页 |
§4.3 小结 | 第76-78页 |
结论 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-90页 |
致谢 | 第90-91页 |
摘要 Ⅰ | 第91-94页 |
Abstract | 第94-97页 |