| 第一章 绪论 | 第1-18页 |
| 1．1 石英玻璃及其应用 | 第11-16页 |
| 1．1．1 石英玻璃 | 第11-12页 |
| 1．1．2 石英玻璃的特性 | 第12-15页 |
| 1．1．2．1 纯度 | 第12-13页 |
| 1．1．2．2 热学性质 | 第13-14页 |
| 1．1．2．3 光学性能 | 第14-15页 |
| 1．1．3 石英玻璃的应用 | 第15-16页 |
| 1．2 本文研究目的、意义和内容 | 第16-18页 |
| 1．2．1 研究目的和意义 | 第16页 |
| 1．2．2 研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 国内外石英玻璃的制备工艺进展 | 第18-27页 |
| 2．1 国内外石英玻璃的发展现状 | 第18-20页 |
| 2．1．1 石英玻璃发展史及国外的发展概况 | 第18-19页 |
| 2．1．2 我国石英玻璃发展情况简介 | 第19-20页 |
| 2．2 石英玻璃的制备工艺 | 第20-27页 |
| 第三章 等离子体化学气相沉积(PCVD) | 第27-43页 |
| 3．1 等离子体 | 第27-39页 |
| 3．1．1 等离子体的基本知识 | 第27-31页 |
| 3．1．1．1 等离子体的定义及基本特点 | 第27页 |
| 3．1．1．2 等离子体的分类 | 第27-28页 |
| 3．1．1．3 等离子体的基本性质 | 第28-31页 |
| 3．1．2 等离子体中的元过程 | 第31-37页 |
| 3．1．2．1 等离子体中的碰撞 | 第31-33页 |
| 3．1．2．2 能态、激发态与电离 | 第33-35页 |
| 3．1．2．3 带电离子的复合过程 | 第35-36页 |
| 3．1．2．4 附着和离解 | 第36-37页 |
| 3．1．3 等离子体的特性和性质 | 第37-39页 |
| 3．1．3．1 热流体力学性质 | 第37-38页 |
| 3．1．3．2 磁流体力学 | 第38-39页 |
| 3．2 等离子体化学气相沉积研究的概况 | 第39-41页 |
| 3．2．1 等离子体化学气相沉积发展历史 | 第39-40页 |
| 3．2．2 等离子体化学气相沉积的主要应用 | 第40-41页 |
| 3．3 等离子体化学气相沉积法的特点 | 第41-43页 |
| 第四章 等离子体化学气相沉积(PCVD)合成石英玻璃的基础分析 | 第43-49页 |
| 4．1 工作原理 | 第43页 |
| 4．2 化学反应体系热力学分析 | 第43-44页 |
| 4．3 沉积机理分析 | 第44-49页 |
| 4．3．1 等离子焰的产生及温度场 | 第44-46页 |
| 4．3．2 等离子体化学气相沉积过程中化学物理机理初步分析 | 第46-49页 |
| 第五章 实验部分 | 第49-56页 |
| 5．1 实验原料 | 第49-51页 |
| 5．1．1 SiCl_4的性质(P～T曲线) | 第49-50页 |
| 5．1．2 SiCl_4的来源 | 第50页 |
| 5．1．3 工作氧气 | 第50-51页 |
| 5．2 工艺流程与实验装置 | 第51-56页 |
| 5．2．1 工艺流程 | 第51页 |
| 5．2．2 设备与装置 | 第51-54页 |
| 5．2．2．1 电路设计 | 第51-52页 |
| 5．2．2．2 工作线圈设计 | 第52-53页 |
| 5．2．2．3 等离子体灯具 | 第53-54页 |
| 5．2．2．4 尾气处理系统 | 第54页 |
| 5．2．3 实验步骤 | 第54-56页 |
| 第六章 PCVD合成石英玻璃的微结构和特性 | 第56-60页 |
| 6．1 PCVD合成石英玻璃的微观结构 | 第56-57页 |
| 6．2 PCW合成石英玻璃的光学性能 | 第57-58页 |
| 6．3 结果分析与讨论 | 第58-60页 |
| 第七章 结论 | 第60-61页 |
| 第八章 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |