模具型腔表面磁流变抛光技术研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·国内外模具型腔表面抛光技术研究现状 | 第11-14页 |
| ·国内外磁场辅助超精密加工技术发展与现状 | 第14-18页 |
| ·磁力研磨 | 第14-15页 |
| ·磁流变抛光 | 第15-17页 |
| ·磁射流抛光 | 第17-18页 |
| ·磁性浮体抛光 | 第18页 |
| ·模具型腔表面磁流变抛光方法的提出 | 第18-21页 |
| ·模具型腔表面抛光难题 | 第19页 |
| ·导磁性材料磁流变抛光的难题与解决 | 第19页 |
| ·抛光方法和基本原理 | 第19-21页 |
| ·课题来源与研究意义 | 第21-22页 |
| ·课题来源 | 第21页 |
| ·课题研究意义 | 第21-22页 |
| ·论文主要研究内容 | 第22-25页 |
| 第2章 模具型腔表面磁流变抛光机理研究 | 第25-37页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·磁流变液及其特性 | 第25-30页 |
| ·磁流变液基本组成及分析 | 第25-27页 |
| ·磁流变效应及特性 | 第27-29页 |
| ·磁流变效应的影响因素 | 第29-30页 |
| ·模具型腔表面磁流变抛光机理 | 第30-35页 |
| ·机械抛光传统理论 | 第30-31页 |
| ·模具型腔表面磁流变抛光的材料去除机理 | 第31-32页 |
| ·模具型腔表面磁流变抛光的材料去除模型 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第3章 实验装置设计与分析 | 第37-57页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验装置总体设计 | 第37-38页 |
| ·抛光工具头的设计 | 第38-39页 |
| ·磁场发生装置的设计 | 第39-44页 |
| ·永磁场装置的设计与分析 | 第39-41页 |
| ·电磁场装置的设计与分析 | 第41-44页 |
| ·磁场发生装置的磁场模拟分析 | 第44-53页 |
| ·永磁装置的模拟分析 | 第45-49页 |
| ·电磁装置的模拟分析 | 第49-52页 |
| ·实验用磁场发生装置的选择 | 第52-53页 |
| ·C 轴驱动平台的设计 | 第53-54页 |
| ·实验平台的搭建 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 模具型腔表面磁流变抛光试验研究 | 第57-75页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·试验设计 | 第57-60页 |
| ·试验仪器及设备 | 第57-59页 |
| ·试验方案 | 第59-60页 |
| ·试验工艺参数分析 | 第60-67页 |
| ·磁场强度对表面粗糙度的影响 | 第60-62页 |
| ·主轴转速对表面粗糙度的影响 | 第62-64页 |
| ·抛光间隙对表面粗糙度的影响 | 第64-65页 |
| ·抛光磨料浓度对表面粗糙度的影响 | 第65-67页 |
| ·参数优化正交试验 | 第67-74页 |
| ·最佳加工时间的确定 | 第68-69页 |
| ·正交试验方案设计与结果 | 第69-70页 |
| ·试验结果处理与分析 | 第70-73页 |
| ·优化后工艺参数的实验验证 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第5章 结论与展望 | 第75-77页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| ·未来研究工作展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第81页 |
