电化学方法制备酞菁功能薄膜及其形态调控
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·纳米科技的研究进展 | 第8-9页 |
| ·纳米材料以及制备 | 第9-11页 |
| ·纳米材料的特性 | 第9-10页 |
| ·纳米材料常用的制备方法 | 第10-11页 |
| ·一维纳米材料以及制备 | 第11-15页 |
| ·有高度异向生长晶体结构的材料形成一维纳米结构 | 第12-13页 |
| ·模板导向合成 | 第13-14页 |
| ·适合于所有固体材料的制备一维纳米材料的方法 | 第14-15页 |
| ·电化学在制备纳米材料中的应用 | 第15-18页 |
| ·纳米光电材料的应用----光电导红外探测器 | 第18-21页 |
| ·光电导红外探测器工作原理 | 第18页 |
| ·制备光电导红外探测器的无机材料及其缺陷 | 第18-19页 |
| ·纳米碳管的红外探测综述 | 第19-20页 |
| ·稀土酞菁及与纳米碳管的复合 | 第20-21页 |
| ·课题的提出及其意义 | 第21-22页 |
| 第二章 光电材料的合成与表征 | 第22-29页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验试剂 | 第22页 |
| ·所用仪器设备 | 第22-23页 |
| ·酞菁铜的提纯 | 第23页 |
| ·酞菁氧钛的制备 | 第23-24页 |
| ·酞菁铕的合成 | 第24-27页 |
| ·由金属氧化物制备无水氯化物 | 第24页 |
| ·由无水氯化物和邻苯二甲腈制备稀土酞菁 | 第24-25页 |
| ·产物的纯化 | 第25-27页 |
| ·材料的表征 | 第27-29页 |
| ·FTIR表征 | 第27-28页 |
| ·UV-Vis表征 | 第28页 |
| ·元素分析 | 第28-29页 |
| 第三章 酞菁类纳米薄膜的制备与形态调控 | 第29-42页 |
| ·电化学沉积法制备酞菁类纳米薄膜的原理 | 第29-32页 |
| ·酞菁类得失电子的过程分析 | 第29-30页 |
| ·循环伏安法 | 第30-32页 |
| ·酞菁类材料的电化学沉积实验过程 | 第32-34页 |
| ·酞菁铕电沉积溶液的配制 | 第32页 |
| ·酞菁氧钛和酞菁铜电化学溶液的配制 | 第32页 |
| ·阴阳电极的清洗 | 第32-33页 |
| ·电化学沉积 | 第33-34页 |
| ·影响酞菁类纳米薄膜形态的因素和调控方法 | 第34-42页 |
| ·酞菁铕纳米薄膜 | 第34-40页 |
| ·电化学沉积时间的影响 | 第34-36页 |
| ·电化学沉积溶液浓度的影响 | 第36-37页 |
| ·外场(磁场)的影响 | 第37-39页 |
| ·基片的影响 | 第39-40页 |
| ·酞菁氧钛薄膜 | 第40-41页 |
| ·酞菁铜薄膜 | 第41-42页 |
| 第四章 沉积薄膜聚集态结构及性能的研究 | 第42-56页 |
| ·酞菁铕薄膜的晶体结构和聚集态结构 | 第42-48页 |
| ·酞菁铕纳米线和薄膜的晶体结构研究 | 第42-44页 |
| ·酞菁铕溶液和薄膜的光学性能 | 第44-46页 |
| ·浸涂制备的薄膜和电化学沉积的比较 | 第46-48页 |
| ·酞菁氧钛薄膜的形态和晶体结构变化 | 第48-50页 |
| ·酞菁氧钛薄膜的晶体结构变化 | 第48页 |
| ·酞菁氧钛溶液和薄膜的光学性能 | 第48-50页 |
| ·酞菁类光电薄膜的生长机理和聚集态讨论 | 第50-54页 |
| ·Ostwald ripening机理 | 第50页 |
| ·从激子模型来分析酞菁铕的分子聚集态结构 | 第50-52页 |
| ·酞菁分子结构的不同对聚集形态的影响 | 第52-54页 |
| ·酞菁类材料薄膜的性能测试 | 第54-56页 |
| ·光电性能(Ⅰ-Ⅴ性能)测试 | 第54-55页 |
| ·稀土酞菁的红外性能 | 第55-56页 |
| 第五章 纳米碳管的电化学沉积 | 第56-60页 |
| ·纳米碳管研究进展、合成和纯化 | 第56-57页 |
| ·纳米碳管的电化学沉积 | 第57-60页 |
| 第六章 总结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 发表的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
