摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-16页 |
·课题背景 | 第9-10页 |
·离子注入技术 | 第10-11页 |
·离子注入特点 | 第10页 |
·离子注入改性机理 | 第10-11页 |
·铜及其合金的离子注入的研究现状 | 第11-14页 |
·离子注入层的组织结构 | 第12-13页 |
·离子注入层的摩擦磨损特性 | 第13-14页 |
·铜合金离子注入表面改性的问题及前景 | 第14页 |
·研究内容 | 第14-16页 |
第2章 实验材料与实验方法 | 第16-19页 |
·样品制备 | 第16-17页 |
·离子注入前样品处理 | 第16页 |
·离子注入 | 第16-17页 |
·试验方法 | 第17-19页 |
·X 射线光电子谱分析(XPS) | 第17页 |
·透射电镜(TEM)形貌观察 | 第17页 |
·硬度测试 | 第17-18页 |
·电导率测试 | 第18页 |
·摩擦磨损性能 | 第18-19页 |
第3章 离子注入层的组织结构 | 第19-43页 |
·锆离子注入层元素浓度—深度分布 | 第19-21页 |
·离子注入前后纯铜表层组织的 TEM 观察 | 第21-24页 |
·2×10~(17)Zr+/cm~2注入剂量下元素化学态分析 | 第24-29页 |
·Zr3d 谱峰分离 | 第24-26页 |
·Cu2p 谱峰分离 | 第26-28页 |
·O1s 谱峰分离 | 第28-29页 |
·6×10~(17)Zr+/cm~2注入剂量下元素化学态分析 | 第29-36页 |
·Zr3d 谱峰分离 | 第31-32页 |
·Cu2p 谱峰分离 | 第32-34页 |
·O1s 谱峰分离 | 第34-36页 |
·1×10~(18)Zr+/cm~2注入剂量下元素化学态分析 | 第36-42页 |
·Zr_3d 谱峰分离 | 第37-39页 |
·Cu_2p 谱峰分离 | 第39-40页 |
·O1s 谱峰分离 | 第40-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第4章 硬度及导电性能测试 | 第43-47页 |
·离子注入层的纳米硬度 | 第43-45页 |
·导电性能测试 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第5章 摩擦磨损性能研究 | 第47-55页 |
·离子注入前后样品的摩擦系数-时间曲线 | 第47-48页 |
·锆离子注入剂量对摩擦磨损性能的影响 | 第48-51页 |
·锆离子注入剂量对摩擦系数的影响 | 第48-49页 |
·锆离子注入剂量对基体磨损量的影响 | 第49-50页 |
·不同注入剂量下基体的磨损表面形貌观察 | 第50-51页 |
·载荷对摩擦磨损性能的影响 | 第51-53页 |
·载荷对基体磨损量的影响 | 第51-52页 |
·不同载荷下的磨损表面形貌观察 | 第52-53页 |
·摩擦速度对摩擦磨损性能的影响 | 第53-54页 |
·摩擦速度对基体磨损量的影响 | 第53页 |
·不同滑动速度下的磨损表面形貌观察 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
作者简介 | 第63页 |