超高密度光盘存储关键技术的研究
| 第一章 序论 | 第1-45页 |
| ·研究意义 | 第9-10页 |
| ·现有的存储技术 | 第10-25页 |
| ·磁盘存储技术 | 第10-14页 |
| ·光盘存储技术 | 第14-23页 |
| ·半导体存储技术 | 第23-25页 |
| ·开发中的高密度数据存储技术 | 第25-38页 |
| ·现有磁盘及光盘存储技术的高密度化研究 | 第25-27页 |
| ·三维光存储技术 | 第27-32页 |
| ·超分辨高密度光存储技术 | 第32-37页 |
| ·其它高密度数据存储技术 | 第37-38页 |
| ·本文的研究内容 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-45页 |
| 第二章 光数据存储光学头系统的建立 | 第45-71页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·光学头光学系统 | 第45-53页 |
| ·光学系统结构分析 | 第46-48页 |
| ·光学系统的改装 | 第48-52页 |
| ·改装后光学头光电性能测试 | 第52-53页 |
| ·光学头控制系统 | 第53-64页 |
| ·聚焦、寻道伺服控制 | 第54-61页 |
| ·光功率调制 | 第61-64页 |
| ·光学头存储实验 | 第64-69页 |
| ·光存储介质 | 第65-66页 |
| ·存储实验装置及结果 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 第三章 固体浸没透镜高密度光存储技术研究 | 第71-91页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·SIL高密度光存储原理 | 第71-73页 |
| ·固体浸没透镜的制作 | 第73-78页 |
| ·制作工艺 | 第74-76页 |
| ·制作过程分析 | 第76-77页 |
| ·制作结果 | 第77-78页 |
| ·SIL飞行头设计 | 第78-79页 |
| ·SIL飞行头飞行高度测控技术 | 第79-86页 |
| ·像散法微位移测量原理 | 第80-83页 |
| ·SIL飞行高度的测量 | 第83-86页 |
| ·SIL数据存储实验 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-91页 |
| 第四章 介质超分辨高密度光存储技术研究 | 第91-113页 |
| ·引言 | 第91页 |
| ·超分辨存储机理 | 第91-94页 |
| ·Sb超分辨薄膜的制作 | 第94-99页 |
| ·Sb溅射靶的制作 | 第94-96页 |
| ·Sb膜溅射工艺 | 第96-97页 |
| ·SiN介质膜的反应溅射 | 第97-98页 |
| ·SiN／Sb／SiN多层膜的制备 | 第98-99页 |
| ·超分辨膜光学特性测量 | 第99-106页 |
| ·Sb膜超分辨特性测量 | 第99-101页 |
| ·Sb超分辨膜层非线性光学特性测量 | 第101-103页 |
| ·NSOM用于Sb膜系超分辨特性测量 | 第103-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 附录 Sb超分辨膜非线性折射率系数的测量与计算 | 第107-111页 |
| 参考文献 | 第111-113页 |
| 第五章 高密度光存储系统的数值分析 | 第113-139页 |
| ·时域有限差分方法 | 第113-121页 |
| ·麦克斯韦方程组 | 第114-115页 |
| ·FDTD基本方程 | 第115-119页 |
| ·吸收边界条件 | 第119-121页 |
| ·激励源的设置 | 第121页 |
| ·固体浸没透镜高密度光存储系统的FDTD模拟 | 第121-135页 |
| ·模拟的问题空间及其边界条件 | 第121-125页 |
| ·聚焦高斯光束的产生 | 第125-130页 |
| ·SIL光场模拟 | 第130-135页 |
| ·本章小结 | 第135-136页 |
| 参考文献 | 第136-139页 |
| 第六章 总结与建议 | 第139-141页 |
| ·总结 | 第139-140页 |
| ·建议 | 第140-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |
| 在读期间发表文章及申请专利 | 第142页 |
