| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| 1．1 激光晶体概述 | 第7-10页 |
| 1．2 钒酸钇晶体（YVO_4、Nd：YVO_4）背景概述 | 第10-12页 |
| 1．2．1 晶体的特点及应用 | 第10-11页 |
| 1．2．2 掺钕钒酸钇晶体（Nd：YVO_4）的特点及应用 | 第11-12页 |
| 1．3 钒酸钇晶体的基本性质 | 第12-13页 |
| 1．4 钒酸钇晶体的应用 | 第13页 |
| 1．5 本项工作的目的 | 第13-15页 |
| 第二章 钒酸钇原料的合成 | 第15-26页 |
| 2．1 综述 | 第15-16页 |
| 2．2 钒酸钇原料的固相合成 | 第16-23页 |
| 2．2．1 纯的（无掺杂）的钒酸钇原料的固相烧结法 | 第16-18页 |
| 2．2．2 纯的（无掺杂）钒酸钇原料的球磨合成 | 第18-22页 |
| 2．2．3 掺钕钒酸钇（Nd：YVO_4）的固相合成 | 第22-23页 |
| 2．3 钒酸钇原料的液相合成 | 第23-26页 |
| 第三章 晶体生长的方法 | 第26-35页 |
| 3．1 熔体生长过程的特点 | 第27-28页 |
| 3．2 熔体生长的方法 | 第28-30页 |
| 3．2．1 Kyropulos（泡生法） | 第28页 |
| 3．2．2 Bridgeman（坩埚移动法） | 第28-29页 |
| 3．2．3 Verneuil（焰熔法） | 第29页 |
| 3．2．4 水平区熔法 | 第29-30页 |
| 3．3 Czochralski（提拉法） | 第30-35页 |
| 3．3．1 提拉法概述 | 第30页 |
| 3．3．2 提拉法生长的一般工艺 | 第30-32页 |
| 3．3．3 提拉法生长中常见的晶体缺陷和控制 | 第32-35页 |
| 第四章 提拉法生长钒酸钇（YVO_4、Nd：YVO_4）晶体 | 第35-46页 |
| 4．1 钒酸钇晶体生长的进程 | 第35页 |
| 4．2 提拉法生长C向纯YVO_4晶体 | 第35-43页 |
| 4．2．1 合成原料 | 第35-36页 |
| 4．2．2 炉形结构与温场设计 | 第36-38页 |
| 4．2．3 生长参数 | 第38页 |
| 4．2．4 晶体的提拉生长 | 第38-40页 |
| 4．2．5 现象与讨论 | 第40-43页 |
| 4．3 提拉法生长C向Nd：YVO_4晶体 | 第43-44页 |
| 4．4 提拉法生长a向纯YVO_4晶体 | 第44-46页 |
| 第五章 晶体的检测 | 第46-50页 |
| 5．1 常规晶体检测 | 第46-47页 |
| 5．2 常用晶体检测方法 | 第47-50页 |
| 5．2．1 晶体成分分析方法 | 第47-48页 |
| 5．2．2 晶体结构及缺陷的检测方法 | 第48-50页 |
| 第六章 YVO_4晶体缺陷、形貌观察及相关性能检测 | 第50-58页 |
| 6．1 散射中心 | 第50页 |
| 6．2 位错 | 第50-51页 |
| 6．3 晶体的紫外透射光谱 | 第51页 |
| 6．4 晶体的X射线白光形貌 | 第51-55页 |
| 6．5 与钕浓度相关的性能测试 | 第55-58页 |
| 第七章 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
