第一章: 前言 | 第1-12页 |
1.1 连续铸造铸过程概述 | 第7-8页 |
1.2 结晶器的温度监控 | 第8-9页 |
1.3 结晶器摩擦力监测 | 第9-10页 |
1.4 结晶器摩擦力在线监测新方法—功率法 | 第10-11页 |
1.5 本论文的主要任务 | 第11-12页 |
第二章 功率法监测摩擦力 | 第12-18页 |
2.1 功率法的总体思路 | 第12页 |
2.2 功率法的数学模型 | 第12-13页 |
2.3 结晶器摩擦力与电机功率 | 第13页 |
2.4 结晶器摩擦力计算公式 | 第13-14页 |
2.5 一机两流结晶器摩擦力在线监测系统的建立 | 第14-18页 |
第三章: 硬件系统的实现 | 第18-29页 |
3.1 监测系统的设计 | 第18-19页 |
3.2 硬件系统组成的实现 | 第19-20页 |
3.3 本系统所用板卡介绍 | 第20-28页 |
3.3.1 A/D转换板 | 第20-22页 |
3.3.2 传感器 | 第22页 |
3.3.3 PCL—720 | 第22-25页 |
3.3.4 PCL—740 | 第25-28页 |
3.4 本系统的支持环境 | 第28-29页 |
第四章: 软件设计 | 第29-46页 |
4.1 下位机编程 | 第29-37页 |
4.1.1 系统软件 | 第29-30页 |
4.1.2 软件的总体设计 | 第30页 |
4.1.3 采样个数的确定 | 第30-31页 |
4.1.4 延时的确定 | 第31页 |
4.1.5 信号的处理 | 第31页 |
4.1.6 防脉冲干扰平均值法的应用 | 第31-32页 |
4.1.7 最大值的确定 | 第32-33页 |
4.1.8 频率和功率最大值的过滤 | 第33页 |
4.1.9 数据的传输 | 第33-34页 |
4.1.10 软件的初始化 | 第34页 |
4.1.11 振动台状态的自动判别 | 第34-35页 |
4.1.12 下位机程序子函数功能 | 第35-36页 |
4.1.13 下位机程序流程图 | 第36-37页 |
4.2 上位机编程 | 第37-46页 |
4.2.1 系统软件 | 第37页 |
4.2.2 编程的总体思路: | 第37-42页 |
4.2.3 串行端口COM3的添加 | 第42页 |
4.2.4 MS VISUAL C++5.0中通讯控件的使用 | 第42-43页 |
4.2.5 上位机的文件保存 | 第43-44页 |
4.2.6 文件的删除 | 第44页 |
4.2.7 接收的保护措施 | 第44-45页 |
4.2.8 上位机的流程图 | 第45-46页 |
第五章: 抗干扰技术和措施 | 第46-52页 |
5.1 干扰源的产生 | 第46-47页 |
5.1.1 信号线引入的干扰 | 第46-47页 |
5.1.2 电源引入的干扰 | 第47页 |
5.1.3 地线干扰 | 第47页 |
5.2 硬件抗干扰措施 | 第47-50页 |
5.2.1 信号线引入的抗干扰措施 | 第47-49页 |
5.2.2 电源引入的抗干扰措施 | 第49页 |
5.2.3 接地的抗干扰措施 | 第49-50页 |
5.2.4 其它抗干扰措施 | 第50页 |
5.3 软件抗干扰措施 | 第50-52页 |
第六章 运行结果 | 第52-63页 |
6.1 结果初步分析: | 第52-54页 |
6.1.1 在正常拉坯情况下,频率和结晶器内摩擦力的(以下简称摩擦力)曲线 | 第52页 |
6.1.2 在开始拉坯时,频率和摩擦力曲线 | 第52-53页 |
6.1.3 换中间罐时的频率和摩擦力曲线 | 第53页 |
6.1.4 不能辨别的图形。 | 第53页 |
6.1.5 空振时的数据 | 第53页 |
6.1.6 空振的KB值的记录 | 第53-54页 |
6.2 对系统的改进意见: | 第54-55页 |
6.3 小结 | 第55-63页 |