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二元光学的组件设计技术与实现方法研究

摘要第1-6页
Abstract第6-15页
第一章 绪论第15-30页
   ·二元光学概述第15-19页
     ·概念第15-16页
     ·二元光学的地位第16-17页
     ·应用前景第17-19页
   ·设计理论及其算法国内外发展状况第19-23页
   ·制作工艺及其发展状况第23-27页
     ·向缩小特征尺寸方向发展的工艺第23-24页
     ·大特征尺寸适用的工艺第24-25页
     ·适应大批量生产发展的工艺第25-26页
     ·适应二元光学系统集成和集成微光机电系统发展的工艺第26-27页
   ·本文研究的主要内容第27-28页
   ·本文的结构第28-30页
第二章 二元光学技术的基本理论第30-47页
   ·傅里叶变换及卷积运算第30-35页
     ·一维傅里叶变换第30-31页
     ·二维傅里叶变换第31-32页
     ·常用傅里叶变换性质第32-33页
     ·几个特殊函数及其傅里叶变换第33-34页
     ·卷积运算第34-35页
   ·麦克斯韦方程及波动方程第35-37页
   ·标量衍射理论第37-42页
     ·衍射的平面波理论第37-41页
     ·夫琅禾费衍射现象的傅里叶分析第41-42页
   ·衍射效率及二元光学元件设计评价函数第42-45页
     ·衍射效率第42-44页
     ·二元光学元件设计优化评价函数第44-45页
   ·矢量衍射理论简介第45-46页
   ·本章小结第46-47页
第三章 二元光学系统设计方法研究第47-73页
   ·横向系统设计新技术第47-49页
   ·二元光学组件级(子系统)设计算法第49-53页
   ·系统设计方法第53-56页
     ·系统级设计第53页
     ·组件级设计第53-55页
     ·元件设计模型的建立第55-56页
     ·工艺模型设计第56页
   ·组件模块级设计举例第56-63页
     ·一维减法器的工作原理第56-59页
     ·一维减法器组件的设计第59-60页
     ·设计结果及仿真验证第60-63页
   ·元件设计举例第63-69页
     ·浮雕面形调制型光栅分束元件的原理第63-65页
     ·优化计算a_(rs)第65-66页
     ·设计结果与仿真第66-69页
       ·分束比为1:2×2第66-67页
       ·分束比为1:3×3第67-68页
       ·分束比为1:4×4第68-69页
     ·结论第69页
   ·工艺模型设计举例第69-72页
   ·本章小结第72-73页
第四章 二元光学组件制作工艺研究第73-83页
   ·引言第73-74页
   ·横向加法光固化成型工艺第74-75页
     ·横向加法光固化成型工艺流程第74-75页
     ·组件制作原理及过程第75页
   ·工艺误差分析及其对衍射效率的影响第75-79页
   ·几个与工艺有关的论题第79-81页
     ·光敏树脂的组成及其固化机理第79-80页
     ·光固化光敏树脂实验规律第80页
     ·光固化成型元件的翘变第80-81页
   ·本章小结第81-83页
第五章 加工设备的研制第83-96页
   ·设备系统构成第83-84页
   ·设备设计第84-87页
   ·数字虚拟掩模技术第87-90页
     ·数字虚拟掩模的概念第87-88页
     ·DMD 的像素单元结构第88-89页
     ·DMD 的工作原理第89页
     ·图像更新第89-90页
   ·设备误差分析第90-93页
     ·DMD 的衍射特性第90-92页
     ·衍射误差分析第92页
     ·结论第92-93页
   ·制作实验第93-95页
   ·本章小结第95-96页
第六章 总结与展望第96-99页
   ·本文主要工作及取得的成果第96-97页
   ·本文的主要贡献及创新第97-98页
   ·工作展望第98-99页
参考文献第99-114页
致谢第114-115页
学习期间的研究成果及发表的学术论文第115-116页

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