摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-15页 |
第一章 绪论 | 第15-30页 |
·二元光学概述 | 第15-19页 |
·概念 | 第15-16页 |
·二元光学的地位 | 第16-17页 |
·应用前景 | 第17-19页 |
·设计理论及其算法国内外发展状况 | 第19-23页 |
·制作工艺及其发展状况 | 第23-27页 |
·向缩小特征尺寸方向发展的工艺 | 第23-24页 |
·大特征尺寸适用的工艺 | 第24-25页 |
·适应大批量生产发展的工艺 | 第25-26页 |
·适应二元光学系统集成和集成微光机电系统发展的工艺 | 第26-27页 |
·本文研究的主要内容 | 第27-28页 |
·本文的结构 | 第28-30页 |
第二章 二元光学技术的基本理论 | 第30-47页 |
·傅里叶变换及卷积运算 | 第30-35页 |
·一维傅里叶变换 | 第30-31页 |
·二维傅里叶变换 | 第31-32页 |
·常用傅里叶变换性质 | 第32-33页 |
·几个特殊函数及其傅里叶变换 | 第33-34页 |
·卷积运算 | 第34-35页 |
·麦克斯韦方程及波动方程 | 第35-37页 |
·标量衍射理论 | 第37-42页 |
·衍射的平面波理论 | 第37-41页 |
·夫琅禾费衍射现象的傅里叶分析 | 第41-42页 |
·衍射效率及二元光学元件设计评价函数 | 第42-45页 |
·衍射效率 | 第42-44页 |
·二元光学元件设计优化评价函数 | 第44-45页 |
·矢量衍射理论简介 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第三章 二元光学系统设计方法研究 | 第47-73页 |
·横向系统设计新技术 | 第47-49页 |
·二元光学组件级(子系统)设计算法 | 第49-53页 |
·系统设计方法 | 第53-56页 |
·系统级设计 | 第53页 |
·组件级设计 | 第53-55页 |
·元件设计模型的建立 | 第55-56页 |
·工艺模型设计 | 第56页 |
·组件模块级设计举例 | 第56-63页 |
·一维减法器的工作原理 | 第56-59页 |
·一维减法器组件的设计 | 第59-60页 |
·设计结果及仿真验证 | 第60-63页 |
·元件设计举例 | 第63-69页 |
·浮雕面形调制型光栅分束元件的原理 | 第63-65页 |
·优化计算a_(rs) | 第65-66页 |
·设计结果与仿真 | 第66-69页 |
·分束比为1:2×2 | 第66-67页 |
·分束比为1:3×3 | 第67-68页 |
·分束比为1:4×4 | 第68-69页 |
·结论 | 第69页 |
·工艺模型设计举例 | 第69-72页 |
·本章小结 | 第72-73页 |
第四章 二元光学组件制作工艺研究 | 第73-83页 |
·引言 | 第73-74页 |
·横向加法光固化成型工艺 | 第74-75页 |
·横向加法光固化成型工艺流程 | 第74-75页 |
·组件制作原理及过程 | 第75页 |
·工艺误差分析及其对衍射效率的影响 | 第75-79页 |
·几个与工艺有关的论题 | 第79-81页 |
·光敏树脂的组成及其固化机理 | 第79-80页 |
·光固化光敏树脂实验规律 | 第80页 |
·光固化成型元件的翘变 | 第80-81页 |
·本章小结 | 第81-83页 |
第五章 加工设备的研制 | 第83-96页 |
·设备系统构成 | 第83-84页 |
·设备设计 | 第84-87页 |
·数字虚拟掩模技术 | 第87-90页 |
·数字虚拟掩模的概念 | 第87-88页 |
·DMD 的像素单元结构 | 第88-89页 |
·DMD 的工作原理 | 第89页 |
·图像更新 | 第89-90页 |
·设备误差分析 | 第90-93页 |
·DMD 的衍射特性 | 第90-92页 |
·衍射误差分析 | 第92页 |
·结论 | 第92-93页 |
·制作实验 | 第93-95页 |
·本章小结 | 第95-96页 |
第六章 总结与展望 | 第96-99页 |
·本文主要工作及取得的成果 | 第96-97页 |
·本文的主要贡献及创新 | 第97-98页 |
·工作展望 | 第98-99页 |
参考文献 | 第99-114页 |
致谢 | 第114-115页 |
学习期间的研究成果及发表的学术论文 | 第115-116页 |