| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第1章 前言 | 第8-21页 |
| ·超导材料发展 | 第8-11页 |
| ·超导体的性质及应用 | 第11-16页 |
| ·零电阻效应 | 第11页 |
| ·迈斯纳效应 | 第11页 |
| ·超导体的应用 | 第11-16页 |
| ·YBCO材料的用途及国内研究现状 | 第16-17页 |
| ·论文研究动机 | 第17-18页 |
| ·本论文主要工作内容 | 第18-21页 |
| 第2章 YBCO薄膜基本特性和生长技术研究 | 第21-46页 |
| ·YBCO晶体结构特性 | 第21-23页 |
| ·YBCO薄膜生长技术 | 第23-27页 |
| ·光辅助MOCVD技术 | 第27-33页 |
| ·MOCVD技术简介 | 第27-28页 |
| ·光处理电子材料的优势 | 第28-29页 |
| ·用于生长YBCO薄膜的光辅助MOCVD系统 | 第29-33页 |
| ·用以生长YBCO膜的原材料 | 第33-38页 |
| ·基片 | 第33-34页 |
| ·金属有机源 | 第34-37页 |
| ·氧分压的作用 | 第37-38页 |
| ·YBCO薄膜的表征方法 | 第38-44页 |
| ·X射线衍射 | 第38-40页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第40-41页 |
| ·X射线能量色散谱(EDS)分析 | 第41-42页 |
| ·电学特性分析 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第3章 光辅助MOCVD法生长YBCO薄膜及相关特性研究 | 第46-66页 |
| ·LAO衬底上生长YBCO薄膜和特性分析 | 第46-49页 |
| ·实验步骤 | 第46-48页 |
| ·YBCO薄膜的生长条件 | 第48-49页 |
| ·生长温度对薄膜性能的影响 | 第49-54页 |
| ·生长温度对薄膜表面及断面的影响 | 第50-52页 |
| ·不同温度下生长的薄膜结构的分析 | 第52-54页 |
| ·反应室上壁为冷壁和热壁的对比研究 | 第54-58页 |
| ·衬底高度的优化与卤素钨灯光源的关系 | 第58-60页 |
| ·生长总压强对YBCO薄膜生长速率的影响 | 第60-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第4章 计算机模拟与系统的优化 | 第66-92页 |
| ·引言 | 第66-68页 |
| ·光辅助MOCVD输运过程的计算机模拟简介 | 第68-70页 |
| ·计算机模拟的标量分布 | 第70-79页 |
| ·基座表面速度标量分布 | 第70-74页 |
| ·基座表面温度分布 | 第74-79页 |
| ·计算机模拟的气流矢量分布 | 第79-83页 |
| ·Φ角对YBCO薄膜晶体质量及超导电学性能的影响 | 第83-90页 |
| ·Φ角对薄膜生长速度与晶体质量的影响 | 第83-88页 |
| ·Φ角对薄膜电学性能的影响 | 第88-90页 |
| ·小结 | 第90-92页 |
| 第5章 金属有机源对YBCO薄膜性能的影响研究 | 第92-104页 |
| ·金属有机源的热学特性 | 第92-93页 |
| ·金属有机源对薄膜表面形貌的影响 | 第93-99页 |
| ·源炉编程升温对膜厚的影响 | 第99-103页 |
| ·小结 | 第103-104页 |
| 结论及展望 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-120页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122-124页 |
| 中文摘要 | 第124-128页 |
| Abstract | 第128-131页 |