大平面机械抛光运动特性及抛光均匀性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-17页 |
| ·课题背景及意义 | 第7-9页 |
| ·课题背景 | 第7-8页 |
| ·课题研究意义 | 第8-9页 |
| ·大平面机械抛光技术的研究现状 | 第9-15页 |
| ·大平面机械抛光技术的特点 | 第9-10页 |
| ·抛光去处机理的研究现状 | 第10-12页 |
| ·抛光均匀性研究现状 | 第12-15页 |
| ·本文研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 大平面机械抛光运动特性研究 | 第17-27页 |
| ·大平面机械抛光过程分析 | 第17-18页 |
| ·大平面机械抛光运动学模型 | 第18-19页 |
| ·单磨削粒运动特性研究 | 第19-22页 |
| ·单磨削粒运动轨迹特性 | 第19-21页 |
| ·单磨削粒速度特性 | 第21-22页 |
| ·单抛光盘运动特性研究 | 第22-24页 |
| ·单抛光盘运动轨迹特性 | 第22-23页 |
| ·单抛光盘速度特性 | 第23-24页 |
| ·抛光盘组合抛光运动特性研究 | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 大平面机械抛光均匀性模型 | 第27-36页 |
| ·Preston假设 | 第27-28页 |
| ·抛光均匀性的数学评价 | 第28-29页 |
| ·抛光均匀性仿真模型 | 第29-31页 |
| ·仿真参数的确定 | 第31-33页 |
| ·时间离散化 | 第31页 |
| ·抛光盘离散化及误差分析 | 第31-33页 |
| ·抛光面离散化 | 第33页 |
| ·抛光均匀性仿真 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 基于抛光工艺参数的抛光质量研究 | 第36-52页 |
| ·抛光质量的影响因素研究 | 第36-38页 |
| ·抛光工艺参数对抛光质量影响研究 | 第38-51页 |
| ·抛光盘转速的影响 | 第38-39页 |
| ·墙地砖输送速度的影响 | 第39-42页 |
| ·横梁摆动周期的影响 | 第42-43页 |
| ·抛光盘间距的影响 | 第43-45页 |
| ·横梁摆动速度曲线的影响 | 第45-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 抛光质量影响的试验研究 | 第52-63页 |
| ·试验方法 | 第52-53页 |
| ·试验数据处理方法 | 第53-55页 |
| ·试验结果及分析 | 第55-62页 |
| ·抛光盘运动轨迹及抛光量分布试验 | 第55-57页 |
| ·抛光压强影响试验 | 第57-58页 |
| ·抛光盘转速影响试验 | 第58-59页 |
| ·墙地砖输送速度影响试验 | 第59-60页 |
| ·横梁摆动周期影响试验 | 第60-61页 |
| ·抛光盘间距影响试验 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论及展望 | 第63-65页 |
| ·全文总结 | 第63-64页 |
| ·研究工作展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间的主要研究成果 | 第70页 |
