中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第一章 引言 | 第7-10页 |
一、 研究背景及现状 | 第7-8页 |
二、 研究内容及意义 | 第8-10页 |
第二章 X 射线管的类型与结构 | 第10-16页 |
一、 常规反射式侧窗 X 射线管的结构 | 第10-11页 |
二、 几种具有特殊结构的 X 射线管 | 第11-14页 |
(一)栅控 X 光管 | 第11-12页 |
(二)双焦点 X 射线管 | 第12页 |
(三)旋转阳极 X 射线管 | 第12-13页 |
(四)冷阴极 X 射线管 | 第13-14页 |
三、 透射式 X 射线管的结构 | 第14-15页 |
四、 X 射线管的冷却系统 | 第15-16页 |
第三章 X 射线的产生、分布及应用 | 第16-24页 |
一、 连续 X 射线 | 第16-17页 |
二、 特征 X 射线 | 第17-18页 |
三、 X 射线的辐射强度分布 | 第18-23页 |
(一)反射式 X 射线管出射 X 射线辐射强度分布 | 第19-22页 |
(二)透射式 X 射线管出射 X 射线辐射强度分布 | 第22-23页 |
四、 X 射线的应用 | 第23-24页 |
第四章 透射阳极 X 射线管靶材选择的理论分析 | 第24-37页 |
一、 靶材相关参数分析 | 第24-25页 |
二、 计算机模拟程序介绍 | 第25页 |
三、 理论基础 | 第25-30页 |
(一)波恩-奥本海默(Born-Oppenheimer)近似 | 第25-26页 |
(二)平均场与 Hartree-Fock 自洽场 | 第26-27页 |
(三)密度泛函理论 | 第27-28页 |
(四)第一原理平面波赝势方法 | 第28-30页 |
四、 晶体模型 | 第30-31页 |
五、 计算结果与分析 | 第31-35页 |
(一)、几何优化后体系性能讨论 | 第31-34页 |
(二)、Be(0001)表面吸附金属原子的态密度分析 | 第34-35页 |
六、 镀膜方法的选取 | 第35-37页 |
结论 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-41页 |
个人简历 | 第41-42页 |
致谢 | 第42页 |