钡钨阴极电子显微分析研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-15页 |
| ·钡钨阴极发展历程 | 第10-12页 |
| ·钡钨阴极研究动态 | 第12-13页 |
| ·研究背景及意义 | 第13-15页 |
| 第二章 阴极工作原理及分析技术 | 第15-20页 |
| ·阴极性能与发射物质成分的关系 | 第15-16页 |
| ·实验仪器原理及实验平台 | 第16-20页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第16-17页 |
| ·电子探针X-射线能谱仪 | 第17-19页 |
| ·实验平台 | 第19-20页 |
| 第三章 工作条件对钡钨阴极微结构影响的研究 | 第20-36页 |
| ·真空度对阴极微结构的影响 | 第20-26页 |
| ·环境气氛与阴极发射性能的关系 | 第20-21页 |
| ·阴极制备过程简介 | 第21-22页 |
| ·微观分析 | 第22-25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-26页 |
| ·工作温度对阴极性能的影响 | 第26-29页 |
| ·温度对阴极蒸发的影响 | 第26-27页 |
| ·温度对阴极微结构的影响 | 第27-29页 |
| ·表面清洁对阴极性能的影响分析 | 第29-32页 |
| ·微观分析 | 第29-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-32页 |
| ·阴极套筒焊接微观分析 | 第32-35页 |
| ·阴极焊接区显微分析 | 第32-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第四章 覆膜钡钨阴极显微分析 | 第36-44页 |
| ·阴极覆膜工艺简介 | 第36-38页 |
| ·钡钨阴极溅射覆膜生长机理 | 第38-39页 |
| ·覆膜钡钨阴极显微结构 | 第39-41页 |
| ·覆膜阴极成分表征 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第五章 阴极覆膜厚度测量的电子探针研究 | 第44-57页 |
| ·电子探针测量膜厚的原理 | 第44-48页 |
| ·入射电子作用深度 | 第45-46页 |
| ·X 射线与物质的相互作用 | 第46-48页 |
| ·模拟软件介绍 | 第48-50页 |
| ·薄膜厚度测量实验 | 第50-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第64-65页 |
