稀土掺杂PZT压电陶瓷与薄膜材料的制备研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-31页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·PZT压电陶瓷概述 | 第10-13页 |
| ·PZT的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·PZT压电陶瓷的性能参数 | 第12-13页 |
| ·PZT压电陶瓷研究现状与进展 | 第13-23页 |
| ·PZT压电陶瓷粉体的制备方法 | 第13-14页 |
| ·PZT压电陶瓷改性技术 | 第14-18页 |
| ·压电陶瓷的低温烧结技术 | 第18页 |
| ·PZT压电陶瓷的应用 | 第18-21页 |
| ·PZT压电陶瓷制备存在的问题及解决的办法 | 第21-23页 |
| ·PZT薄膜的研究现状与进展情况 | 第23-28页 |
| ·PZT薄膜的制备方法 | 第23-25页 |
| ·PZT薄膜的掺杂改性研究现状 | 第25-27页 |
| ·PZT多层膜 | 第27页 |
| ·PZT压电薄膜的应用 | 第27-28页 |
| ·本文的主要研究内容及意义 | 第28-31页 |
| 第二章 实验设备及研究方法 | 第31-35页 |
| ·主要实验原料及设备 | 第31-32页 |
| ·实验原料 | 第31页 |
| ·实验仪器与设备 | 第31-32页 |
| ·实验分析表征方法 | 第32-35页 |
| ·粉体的热重/差热分析 | 第32页 |
| ·粉体粒度测试 | 第32页 |
| ·X射线衍射分析 | 第32-33页 |
| ·PZT靶材的密度测试 | 第33页 |
| ·SEM测试 | 第33-34页 |
| ·PZT的介电常数及介电损耗 | 第34页 |
| ·PZT的压电性能测试 | 第34页 |
| ·PZT薄膜的AFM测试分析 | 第34-35页 |
| 第三章 固相法制备PZT压电陶瓷 | 第35-59页 |
| ·实验准备 | 第35页 |
| ·固相合成法制备PZT压电陶瓷靶材 | 第35-44页 |
| ·PZT粉体的制备 | 第36页 |
| ·预烧温度的确定 | 第36-44页 |
| ·掺杂系列 | 第44-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-55页 |
| ·PZT靶材的微观结构与形貌 | 第47-52页 |
| ·PZT陶瓷的密度和介电性能 | 第52-55页 |
| ·PZT陶瓷的被银 | 第55-56页 |
| ·PZT陶瓷的极化 | 第56页 |
| ·PZT陶瓷的压电性能测试 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 PLD法制备PZT薄膜 | 第59-77页 |
| ·PZT薄膜的制备 | 第59-61页 |
| ·脉冲激光沉积系统 | 第59-60页 |
| ·衬底的选择与清洗 | 第60页 |
| ·PZT薄膜制备工艺参数 | 第60-61页 |
| ·PLD法制备PZT薄膜 | 第61-63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-71页 |
| ·掺杂离子占位分析 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-77页 |
| 第五章 结论与展望 | 第77-81页 |
| ·结论 | 第77-78页 |
| ·展望 | 第78-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表论文目录 | 第91-93页 |
| 附录B：攻读硕士期间参与项目 | 第93页 |
