| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-21页 |
| ·国内外研究现状 | 第8-9页 |
| ·光催化基本原理及改性技术 | 第9-12页 |
| ·半导体光催化基础 | 第9-10页 |
| ·TiO_2 光催化原理 | 第10-11页 |
| ·TiO_2 改性技术 | 第11-12页 |
| ·常见薄膜制备工艺 | 第12-14页 |
| ·溅射沉积 | 第12-13页 |
| ·化学气相沉积 | 第13页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第13-14页 |
| ·液相沉积法 | 第14页 |
| ·TiO_2 光催化剂的应用 | 第14-16页 |
| ·空气净化领域的应用 | 第14-15页 |
| ·水质、土壤净化领域的应用 | 第15页 |
| ·医疗、卫生领域的应用 | 第15-16页 |
| ·自洁净、防雾领域的应用 | 第16页 |
| ·光催化活性研究 | 第16-19页 |
| ·光催化活性的影响因素 | 第16-17页 |
| ·光催化剂失活原因 | 第17-18页 |
| ·光催化剂活性再生方法 | 第18-19页 |
| ·目前存在的问题 | 第19-20页 |
| ·课题的目的及意义 | 第20-21页 |
| 2 溅射法制备薄膜材料 | 第21-24页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第21-23页 |
| ·溅射过程中薄膜的生长过程 | 第23-24页 |
| 3 实验 | 第24-30页 |
| ·实验设备及原材料 | 第24-25页 |
| ·试验仪器设备 | 第24页 |
| ·原材料 | 第24-25页 |
| ·实验工艺过程 | 第25-26页 |
| ·实验方案 | 第25页 |
| ·实验流程 | 第25-26页 |
| ·薄膜的结构及性能检测 | 第26-30页 |
| 4 WO_3 薄膜的制备及光催化性能研究 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·工艺参数对薄膜光催化性能的影响 | 第30-34页 |
| ·溅射功率对薄膜光催化性能的影响 | 第30-31页 |
| ·氧气流量对薄膜光催化性能的影响 | 第31-33页 |
| ·溅射时间对薄膜光催化性能的影响 | 第33-34页 |
| ·其它工艺参数对薄膜光催化性能的影响 | 第34页 |
| ·WO_3 薄膜的催化失活与活性再生 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 5 TiO_2/WO_3 薄膜的制备及性能研究 | 第36-57页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·薄膜的XRD 分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜的XPS 分析 | 第37-39页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜光催化性能分析 | 第40-46页 |
| ·复合量对光催化性能的影响 | 第40-41页 |
| ·复合方式对光催化性能的影响 | 第41-42页 |
| ·复合层厚度对光催化性能的影响 | 第42-43页 |
| ·基材对薄膜光催化性能的影响 | 第43-44页 |
| ·催化剂用量对薄膜光催化性能的影响 | 第44-45页 |
| ·光源对薄膜光催化性能的影响 | 第45-46页 |
| ·TiO_2/WO_3 薄膜的催化失活 | 第46-49页 |
| ·薄膜的强制失活 | 第46-47页 |
| ·薄膜使用中光催化反应速率分析 | 第47-49页 |
| ·TiO_2/WO_3 薄膜的活性再生 | 第49-51页 |
| ·处理方法对薄膜活性再生的影响 | 第49-50页 |
| ·再生膜与新鲜膜降解速率比较 | 第50-51页 |
| ·薄膜循环使用性能分析 | 第51-53页 |
| ·非晶态TiO_2/WO_3 薄膜的循环使用效果 | 第51-52页 |
| ·非晶态TiO_2/WO_3 复合薄膜的最大再生次数 | 第52-53页 |
| ·SiO_2 对薄膜使用性能的影响 | 第53页 |
| ·TiO_2/WO_3 薄膜的储能特性初探 | 第53-55页 |
| ·本章小节 | 第55-57页 |
| 6 结论 | 第57-58页 |
| 7 后续工作 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 附录 | 第64页 |