摘要 | 第1-10页 |
Abstract | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-31页 |
·研究背景 | 第12-13页 |
·阴影绘制的相关理论 | 第13-19页 |
·光和光源 | 第13-15页 |
·阴影的定义 | 第15-17页 |
·虚拟环境中阴影的作用 | 第17-19页 |
·研究内容 | 第19-22页 |
·虚拟环境中阴影的主要绘制算法 | 第19-21页 |
·本文研究的主要内容 | 第21-22页 |
·国内外研究现状 | 第22-29页 |
·关于阴影贴图算法中反走样技术的研究 | 第22-26页 |
·基于图像的柔和阴影算法 | 第26-27页 |
·环境遮挡算法 | 第27-28页 |
·地貌晕渲中的光照模型 | 第28-29页 |
·可编程图形硬件的发展 | 第29页 |
·论文组织结构 | 第29-31页 |
第二章 基于图像的硬阴影绘制算法 | 第31-66页 |
·阴影贴图算法的原理及特点 | 第31-36页 |
·阴影贴图算法的原理 | 第31-32页 |
·阴影贴图算法的优点 | 第32-33页 |
·阴影贴图算法的缺点 | 第33-36页 |
·阴影贴图算法的走样问题分析 | 第36-42页 |
·阴影贴图算法中走样的原因 | 第36-37页 |
·透视走样和投影走样的含义 | 第37-39页 |
·阴影贴图算法中走样的定量分析 | 第39-41页 |
·阴影贴图算法中的反走样算法 | 第41-42页 |
·基于分割的反走样算法 | 第42-48页 |
·沿着z轴方向的分割算法 | 第42-45页 |
·一种新的场景划分方法 | 第45-48页 |
·基于变形的反走样算法 | 第48-54页 |
·透视阴影贴图算法 | 第48-52页 |
·光源空间的透视阴影贴图算法 | 第52-53页 |
·梯形阴影贴图算法 | 第53-54页 |
·全方向光源下的阴影绘制算法 | 第54-59页 |
·一种视点自适应的阴影贴图算法 | 第59-65页 |
·计算眼睛视锥体在地面上的覆盖区域 | 第59-61页 |
·计算眼睛视锥覆盖区域的最小包围矩形 | 第61-62页 |
·光源参数的计算 | 第62-63页 |
·利用全球虚拟地形环境进行验证 | 第63-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第三章 半影区域可变的柔和阴影实时绘制算法 | 第66-95页 |
·概述 | 第66页 |
·柔和阴影算法的评价标准及算法回顾 | 第66-70页 |
·柔和阴影评价标准 | 第66-68页 |
·基于图像的柔和阴影算法回顾 | 第68-70页 |
·基于图像滤波的柔和阴影计算 | 第70-83页 |
·图像滤波的相关概念 | 第70页 |
·基于规则采样的均值邻近滤波在柔和阴影计算中的应用 | 第70-75页 |
·基于随机采样的均值邻近滤波在柔和阴影计算中的应用 | 第75-77页 |
·基于加权滤波的柔和阴影算法 | 第77-81页 |
·基于图像滤波的柔和阴影算法性能分析 | 第81-83页 |
·三种面向阴影纹理预处理的柔和阴影算法及评价 | 第83-86页 |
·方差阴影贴图算法 | 第83-84页 |
·卷积阴影贴图算法 | 第84-85页 |
·指数阴影贴图算法 | 第85-86页 |
·一种半影区域可变的柔和阴影算法 | 第86-94页 |
·PCSS算法的基本原理 | 第87-88页 |
·PCSS算法的性能分析 | 第88-90页 |
·一种半影区域可变的柔和阴影算法 | 第90-94页 |
·本章小结 | 第94-95页 |
第四章 基于屏幕空间的环境遮挡算法 | 第95-116页 |
·概述 | 第95-97页 |
·环境遮挡算法回顾 | 第97-102页 |
·环境遮挡算法的起源 | 第97-99页 |
·基于顶点的环境遮挡算法 | 第99-100页 |
·基于对象的环境遮挡算法 | 第100-101页 |
·基于屏幕空间的环境遮挡算法 | 第101-102页 |
·屏幕空间中环境遮挡算法的基本原理和特征分析 | 第102-108页 |
·基本概念和分类 | 第102-103页 |
·面向点采样的环境遮挡计算方法 | 第103-104页 |
·面向射线采样的环境遮挡计算方法 | 第104-107页 |
·基于屏幕空间的遮挡算法特征分析 | 第107-108页 |
·影响HSAO算法性能的因素分析 | 第108-114页 |
·HSAO算法中可能的影响因素分析 | 第108-109页 |
·HSAO算法性能测试 | 第109-114页 |
·HSAO算法在虚拟环境中的应用及图形硬件加速 | 第114-115页 |
·本章小结 | 第115-116页 |
第五章 数字地貌晕渲中的阴影绘制 | 第116-136页 |
·概述 | 第116-117页 |
·地貌晕渲的基本着色规则和基本的光照模型 | 第117-119页 |
·地貌晕渲中的基本着色规则 | 第117-118页 |
·数字地貌晕渲中用于阴影绘制的算法回顾 | 第118-119页 |
·数字地貌晕渲中两种光照模型的比较 | 第119-124页 |
·Lambert漫反射模型 | 第119-120页 |
·基于坡向光照模型 | 第120-121页 |
·两种光照模型的对比实验和分析 | 第121-124页 |
·一种面向地貌因子的光照模型 | 第124-131页 |
·面向坡向的光照计算 | 第124-125页 |
·面向坡度的光照计算 | 第125-126页 |
·面向高程的光照计算 | 第126页 |
·不同模型下的实验 | 第126-128页 |
·算法的实现 | 第128-131页 |
·数字地貌晕渲中光源方位的选取 | 第131-135页 |
·光源方位对晕渲效果的影响 | 第131-132页 |
·基于多方向光源的晕渲方法 | 第132-135页 |
·本章小结 | 第135-136页 |
第六章 结论和展望 | 第136-138页 |
·研究工作总结 | 第136-137页 |
·下一步的工作 | 第137-138页 |
参考文献 | 第138-145页 |
作者简历 攻读博士学位期间完成的主要工作 | 第145-146页 |
致谢 | 第146页 |