| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-36页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·管筒件内表面处理研究现状 | 第15-27页 |
| ·电镀 | 第16页 |
| ·激光强化处理 | 第16-17页 |
| ·等离子体表面改性 | 第17-27页 |
| ·空心阴极放电效应 | 第27-29页 |
| ·空心阴极效应 | 第27页 |
| ·电子钟摆理论 | 第27-28页 |
| ·空心阴极放电区域的分布 | 第28-29页 |
| ·管筒内表面等离子体动力学行为数值仿真 | 第29-34页 |
| ·鞘层扩展动力学计算方法 | 第29-32页 |
| ·管内离子注入数值仿真研究现状 | 第32-34页 |
| ·本文研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 试验材料和方法 | 第36-45页 |
| ·试验材料 | 第36页 |
| ·实验设备及原理 | 第36-37页 |
| ·等离子体密度测量 | 第37-41页 |
| ·等离子体密度测量原理 | 第37-38页 |
| ·等离子体密度测量实验参数 | 第38-41页 |
| ·平面工件空心阴极放电等离子体改性工艺实验 | 第41-42页 |
| ·管筒内壁空心阴极放电处理工艺实验 | 第42-43页 |
| ·分析方法 | 第43-45页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第43页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第43-44页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第44页 |
| ·光学显微镜分析 | 第44页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第44页 |
| ·显微硬度分析 | 第44页 |
| ·摩擦磨损测试 | 第44页 |
| ·腐蚀测试 | 第44-45页 |
| 第3章 空心阴极放电等离子体特性研究 | 第45-63页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·自由状态空心阴极放电等离子体特性 | 第45-49页 |
| ·管件约束空心阴极放电等离子体特性 | 第49-56页 |
| ·屏蔽地电极对空心阴极放电的影响 | 第56-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 平面工件空心阴极等离子体注入/沉积研究 | 第63-80页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·平面工件膜层结构及性能研究 | 第63-74页 |
| ·TiN 结构及性能研究 | 第63-67页 |
| ·TiN 膜层均匀性研究 | 第67-71页 |
| ·DLC 膜层结构及性能研究 | 第71-74页 |
| ·平面工件氮离子注入研究 | 第74-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第5章 管筒内表面离子注入PIC 数值模拟 | 第80-107页 |
| ·前言 | 第80页 |
| ·空心阴极内表面离子注入PIC 模型的建立 | 第80-84页 |
| ·空心阴极装置的优化 | 第84-100页 |
| ·屏蔽地电极空心阴极结构 | 第84-87页 |
| ·复合地电极空心阴极结构 | 第87-91页 |
| ·中心辅助地电极长度的影响 | 第91-97页 |
| ·屏蔽地电极内径的影响 | 第97-100页 |
| ·试验参数对等离子体行为的影响 | 第100-106页 |
| ·电压的变化 | 第100-103页 |
| ·等离子体密度的变化 | 第103-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第6章 管筒内壁空心阴极等离子体注入/沉积研究 | 第107-137页 |
| ·引言 | 第107页 |
| ·DLC 薄膜注入/沉积对表面性能的影响及其性能表征 | 第107-123页 |
| ·管内定点DLC 薄膜沉积及其性能表征 | 第107-115页 |
| ·整管DLC 薄膜沉积及性能表征 | 第115-123页 |
| ·N 离子注入对表面性能的影响及其性能表征 | 第123-134页 |
| ·管内不同位置表面成分分析 | 第123-125页 |
| ·管内中心位置摩擦学性能分析 | 第125-131页 |
| ·管内中心位置的腐蚀性能分析 | 第131-133页 |
| ·管内不同位置腐蚀性能分析 | 第133-134页 |
| ·0.5m 长管等离子改性研究 | 第134-135页 |
| ·本章小结 | 第135-137页 |
| 结论 | 第137-139页 |
| 参考文献 | 第139-153页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第153-156页 |
| 致谢 | 第156-157页 |
| 个人简历 | 第157页 |