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调控单一染料存在状态制备多色图案

内容提要第1-9页
第1章 绪论第9-51页
   ·染料概述第9-20页
     ·染料的发展史第9-10页
     ·染料的概念、分类和命名第10-12页
     ·吸收现象与发色理论第12-17页
     ·染料的发光第17-20页
     ·染料的应用第20页
   ·染料阵列第20-33页
     ·染料阵列的应用第20-27页
       ·OLED 显示第21-23页
       ·信息存储第23-24页
       ·传感器及传感器阵列第24-25页
       ·分布式反馈激光器第25-26页
       ·有机光电子器件阵列第26-27页
     ·染料阵列的制备方法第27-33页
       ·微加工制备技术第28-30页
       ·选择组装和自组织第30-32页
       ·其它技术第32-33页
   ·染料的形态与性质第33-41页
     ·染料分子间的相互作用第33-35页
     ·激基缔合物和染料聚集体的性质第35-39页
     ·染料/聚合物共混体系的性质第39-41页
   ·本文的研究思路和主要研究成果第41-43页
     ·研究思路第41页
     ·主要研究成果第41-43页
 参考文献第43-51页
第2章 染料在不同基底上的形态和光学性质第51-71页
   ·引言第51页
   ·仪器和试剂第51-53页
   ·沉积在不同基底上的染料的形态研究第53-57页
     ·染料分子的表面形貌表征第53-56页
     ·XRD 结晶性表征第56-57页
   ·沉积在不同基底上的染料的光学性质第57-62页
     ·吸收光谱性质第57-59页
     ·荧光发射光谱及荧光显微镜测试第59-62页
   ·染料性质随放置时间的变化第62-68页
     ·在致密无机基底上的变化第62-65页
     ·在聚合物基底上的变化第65-68页
   ·本章小结第68-69页
 参考文献第69-71页
第3章 染料在聚合物中的渗透性和溶解性第71-94页
   ·引言第71页
   ·仪器和试剂第71-72页
   ·染料分子在PDMS 中的渗透行为第72-79页
     ·PDMS 样品剖面分析第72-73页
     ·染料的扩散渗透过程第73-79页
   ·染料的渗透性和溶解性差异第79-86页
     ·染料渗透在聚合物间的差异第79-81页
     ·NOA 交联度对染料渗透的影响第81-86页
       ·NOA 结构随曝光量变化的PALS 研究第81-83页
       ·曝光量导致的发光颜色调制第83-86页
   ·基于染料溶解度的稳定颜色调制第86-89页
     ·基于不同聚合物材料第86-87页
     ·基于同种材料的交联度变化第87-89页
   ·本章小结第89-91页
 参考文献第91-94页
第4章 双色微纳图案的制备第94-125页
   ·引言第94页
   ·仪器和试剂第94-97页
   ·异质结构表面的构筑第97-103页
     ·二维结构构筑第97-100页
     ·三维结构构筑第100-103页
   ·基于吸收差异的Rh-6G 双色图案第103-106页
     ·光刻模板制备的双色图案第103-105页
     ·NiL 模板制备的双色图案第105-106页
   ·基于荧光差异的DBQA 和ANP 双色图案第106-113页
     ·DBQA 双色图案第106-109页
     ·ANP 双色图案第109-113页
   ·基于不同处理的同种材料基底的双色发光图案第113-120页
     ·NOA-63 光刻掩模曝光基底第113-116页
     ·纳米压印图案化的层状组装膜基底第116-120页
   ·本章小结第120-122页
 参考文献第122-125页
第5章 多色荧光图案制备及前景展望第125-135页
   ·引言第125页
   ·多色荧光图案制备第125-129页
     ·灰度光刻模板法第125-127页
     ·二元光刻掩模二次曝光法第127-129页
   ·前景及展望第129-133页
     ·RGB 像素构建和白光显示第129-130页
     ·聚合物结构性质研究第130-131页
     ·有机光子学和光电子学器件第131页
     ·有机染料的传感性能研究第131-133页
 参考文献第133-135页
攻读博士学位期间所发表的论文第135-138页
作者简历第138-139页
致谢第139-141页
摘要第141-144页
Abstract第144-146页

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