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基于衰减全反射技术测量线性共轭聚合物三阶非线性光学性质方法的研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
第一章 综述第12-21页
   ·非线性光学与非线性光学材料第12-13页
   ·三阶光学非线性及其研究意义第13-15页
   ·具有三阶非线性的有机聚合物第15-16页
   ·常用测量聚合物三阶光学非线性性质的实验技术第16-19页
     ·Z 扫描第16-18页
     ·简并四波混频第18-19页
   ·本文的内容及架构第19-21页
第二章 衰减全反射(ATR) 技术第21-36页
   ·金属薄膜结构与表面等离子波第21-23页
   ·非对称金属包覆波导结构第23-26页
   ·对称金属包覆波导结构第26-30页
   ·棱镜波导耦合结构第30-35页
     ·ATR 谱线第31-32页
     ·导波层厚度和折射率的测量第32-33页
     ·导波层中的电场分布第33-35页
   ·总结第35-36页
第三章 利用ATR 技术测量聚合物的二次电光效应第36-61页
   ·电光效应第36-40页
   ·测量聚合物二次电光系数的各种方法第40-42页
     ·Mach-Zehnder 干涉仪法第40-41页
     ·直接反射技术法第41-42页
   ·二次电光效应的起源第42-44页
   ·利用衰减全反射技术测量聚合物的二次电光系数第44-58页
     ·测量原理第44-46页
     ·实验用的聚合物材料—–聚芴PF6/8第46-47页
     ·样品制备及相关参数测量第47-51页
     ·实验装置第51-52页
     ·实验数据处理方法第52-54页
     ·数据处理第54-57页
     ·误差分析第57-58页
   ·存在形变贡献时聚合物二次电光系数的确定第58-60页
   ·总结第60-61页
第四章 基于ATR 技术测量聚合物二次电光系数色散第61-73页
   ·聚合物折射率的色散第61-64页
     ·Sellmeier 折射率色散公式第61-62页
     ·幂函数多项式第62页
     ·折射率色散的多项式拟合第62-63页
     ·聚合物PF6/8 折射率的色散第63-64页
   ·二次电光系数的色散表达式第64-69页
     ·线性聚合物分子的一维近似第65页
     ·局域场因子第65页
     ·实验室坐标系与分子坐标系的转换第65-66页
     ·各向同性聚合物分子系统的取向平均第66-67页
     ·三阶非线性极化率、二次电光光系数及直流克尔系数的色散表达式..第67-69页
   ·利用ATR 技术确定聚合物二次电光系数的色散第69-71页
   ·ATR 方法与 Mach-Zehnder 干涉仪法的比较第71-72页
   ·总结第72-73页
第五章 非谐振区内聚合物的二阶分子超极化率的测量第73-88页
   ·分子超极化率第73-77页
   ·二能级近似下的二阶分子超极化率第77-80页
   ·利用ATR 技术测量聚合物的二阶分子超极化率γ(-ω;0,0,ω)第80-81页
   ·二阶分子超极化率γ(-ω;0,0,ω) 在非谐振区内的色散第81-82页
   ·聚合物的二阶分子超极化率γ(-ω4;ω3,ω2,ω1)第82-84页
   ·转移偶极矩的确定第84-86页
     ·共轭长度的估算第85-86页
     ·重复单元的转移偶极距第86页
   ·总结第86-88页
第六章 聚合物的二阶复分子超极化率的测定第88-100页
   ·测量聚合物三阶复非线性参数的方法第88-91页
     ·Mach-Zehnder 干涉仪法第88-90页
     ·二次电吸收(QEA) 技术第90-91页
   ·波导结构中损耗对导模的影响第91-94页
     ·导波层聚合物折射率虚部对导模的影响第91-93页
     ·金属包覆层虚部对导模的影响第93-94页
   ·利用ATR 方法测量聚合物的二阶复分子超极化率第94-97页
     ·测量原理第94-96页
     ·数据测量及处理第96-97页
   ·ATR 法与 QEA 法的比较第97-99页
   ·总结第99-100页
第七章 总结和展望第100-103页
   ·本论文的主要工作第100-101页
   ·今后工作的展望第101-103页
参考文献第103-113页
附录 A Maple代码:m线法测量波导层厚度和折射率第113-117页
附录 B 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)第117-118页
附录 C PMMA 保护层厚度的确定第118-120页
附录 D 光学玻璃的折射率第120-121页
致谢第121-122页
攻读博士学位期间的研究成果第122-123页

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