CYC和YYC缓冲层上的YBCO溅射生长研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 概述 | 第8-21页 |
| ·超导材料简介 | 第8-9页 |
| ·HTS 材料在强电领域中的应用 | 第9-10页 |
| ·高温超导带材的发展 | 第10-12页 |
| ·第一代高温超导带材 | 第10-11页 |
| ·第二代高温超导带材 | 第11-12页 |
| ·YBCO 高温超导带材的结构 | 第12-19页 |
| ·金属基带 | 第13-15页 |
| ·缓冲层 | 第15-17页 |
| ·超导层 | 第17-19页 |
| ·晶格结构 | 第17-18页 |
| ·制备方法 | 第18-19页 |
| ·研究现状 | 第19-20页 |
| ·论文的选题依据和研究方案 | 第20-21页 |
| 第二章 实验方法和原理 | 第21-29页 |
| ·直流溅射法 | 第21-22页 |
| ·实验装置 | 第22-23页 |
| ·薄膜分析表征 | 第23-29页 |
| ·台阶仪 | 第23-24页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| ·超导性能测试 | 第27-29页 |
| 第三章 CYC 缓冲层上YBCO 薄膜的生长 | 第29-40页 |
| ·实验条件 | 第29-30页 |
| ·缓冲层微观结构对超导层的影响 | 第30-32页 |
| ·缓冲层表面形貌对超导层的影响 | 第32-35页 |
| ·结构良好的CYC 缓冲层特点 | 第35-36页 |
| ·CYC 上制备的YBCO 薄膜的特点 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 YYC 缓冲层上的YBCO 薄膜生长 | 第40-56页 |
| ·YYC 缓冲层的结构和表面 | 第40-43页 |
| ·YYC 缓冲层的结构 | 第40-42页 |
| ·YYC 缓冲层的表面 | 第42-43页 |
| ·沉积温度的影响 | 第43-50页 |
| ·实验条件 | 第44页 |
| ·沉积温度对微观结构的影响 | 第44-48页 |
| ·沉积温度对表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·基片温度对性能的影响 | 第49-50页 |
| ·溅射气氛的影响 | 第50-53页 |
| ·氧分压对微观结构的影响 | 第50-52页 |
| ·氧分压对性能的影响 | 第52-53页 |
| ·YBCO 带材与薄膜的比较 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第64-65页 |
