| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·热电效应原理 | 第12-15页 |
| ·Seebeck效应 | 第12-13页 |
| ·Peltier效应 | 第13-14页 |
| ·Thomson效应 | 第14-15页 |
| ·热电效应之间的相互关系 | 第15页 |
| ·热电效应的应用及其进展 | 第15-17页 |
| ·热电材料的研究进展 | 第17-25页 |
| ·低温热电材料 | 第18-20页 |
| ·中温热电材料 | 第20-23页 |
| ·高温热电材料 | 第23-24页 |
| ·热电材料结构低维化研究 | 第24-25页 |
| ·Bi_2Se_3研究现状与进展 | 第25-30页 |
| ·Bi_2Se_3的基本性质 | 第25-26页 |
| ·Bi_2Se_3基化合物的制备方法 | 第26-29页 |
| ·论文选题的目的及主要研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 材料的制备方法与实验设备 | 第30-34页 |
| ·制备设备简介 | 第30-31页 |
| ·高温高压反应釜 | 第30页 |
| ·高速冷冻离心机 | 第30-31页 |
| ·真空冷冻干燥设备 | 第31页 |
| ·放电等离子烧结设备 | 第31页 |
| ·材料的相组成与微结构表征 | 第31-32页 |
| ·材料的物相组成 | 第31-32页 |
| ·微结构表征 | 第32页 |
| ·材料热电性能测试 | 第32-34页 |
| ·Seebeck系数和电导率的测试 | 第32-33页 |
| ·热导率测试 | 第33-34页 |
| 第三章 溶剂热法合成Bi_2Se_3基化合物及其热电性能 | 第34-68页 |
| ·二元Bi_2Se_3纳米粉体的合成 | 第34-51页 |
| ·实验流程 | 第34-35页 |
| ·不同的起始原料对合成产物相组成的影响 | 第35-36页 |
| ·不同的溶剂及其配比对合成产物相组成和微结构的影响 | 第36-41页 |
| ·反应温度与时间对合成产物相组成和微结构的影响 | 第41-44页 |
| ·碱的浓度对合成产物相组成和微结构的影响 | 第44-46页 |
| ·表面活性剂对合成产物相组成和微结构的影响 | 第46-50页 |
| ·反应机理分析 | 第50-51页 |
| ·二元Bi_2Se_3烧结工艺探索及其热电性能 | 第51-58页 |
| ·烧结温度与压力对致密度的影响 | 第51-53页 |
| ·二元Bi_2Se_3的热电性能 | 第53-58页 |
| ·三元Bi_2Se_2Te制备工艺的探索及其热电性能研究 | 第58-67页 |
| ·实验方案与工艺流程 | 第58-60页 |
| ·三元Bi_2Se_2Te粉体的制备工艺探索 | 第60-61页 |
| ·三元Bi_2Se_2Te块体的相组成与微结构 | 第61-64页 |
| ·三元Bi_2Se_2Te块体的热电性能 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第四章 低温湿化学法合成Bi_2Se_3超薄纳米片 | 第68-92页 |
| ·样品的合成 | 第68-69页 |
| ·Na_2SeSO_3溶液的合成 | 第68页 |
| ·pH=10的缓冲溶液的制备 | 第68页 |
| ·Bi_2Se_3的合成 | 第68-69页 |
| ·制备工艺对产物相组成和微结构的影响 | 第69-85页 |
| ·反应温度与时间对合成产物相组成和微结构的影响 | 第70-73页 |
| ·不同络合剂对合成产物相组成和微结构的影响 | 第73-77页 |
| ·不同pH值的缓冲溶剂对合成产物相组成的影响 | 第77-79页 |
| ·搅拌与超声对合成产物相组成与微结构的影响 | 第79-80页 |
| ·不同干燥方式对产物微观形貌的影响 | 第80-81页 |
| ·反应机理与形貌生长过程 | 第81-85页 |
| ·块体的热电性能 | 第85-90页 |
| ·烧结块体的相组成与微结构 | 第85-87页 |
| ·热电性能 | 第87-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 第五章 结论 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-100页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和申请的发明专利 | 第100-101页 |
| 致谢 | 第101页 |
