多孔不锈钢基体上钯膜镀覆技术研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 钯膜的现状研究 | 第9-18页 |
| 1.2.1 气体分离膜的研究进展 | 第9-11页 |
| 1.2.2 钯膜渗氢机理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 钯膜渗氢影响因素 | 第12-13页 |
| 1.2.4 钯膜的制备方法 | 第13-18页 |
| 1.3 研究目的及意义 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法及表征手段 | 第19-26页 |
| 2.1 实验工艺流程 | 第19页 |
| 2.2 钯膜的制备工艺 | 第19-21页 |
| 2.2.1 基体前处理 | 第19-20页 |
| 2.2.2 化学预镀 | 第20页 |
| 2.2.3 电镀法镀钯 | 第20-21页 |
| 2.3 膜的表面形貌及成分表征 | 第21-24页 |
| 2.3.1 钯膜的表面形貌表征 | 第21-22页 |
| 2.3.2 钯膜的成分表征 | 第22-24页 |
| 2.4 钯膜的性能表征 | 第24-25页 |
| 2.4.1 钯膜的抗热震性能 | 第24页 |
| 2.4.2 钯膜的渗氢性能表征 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 化学镀-电镀联合法制备多孔不锈钢/Pd膜 | 第26-38页 |
| 3.1 钯膜制备工艺参数探索 | 第26-36页 |
| 3.1.1 基体前处理 | 第27-29页 |
| 3.1.2 化学预镀液浓度 | 第29-31页 |
| 3.1.3 化学预镀时间 | 第31-32页 |
| 3.1.4 电镀电流密度 | 第32-34页 |
| 3.1.5 电镀时间 | 第34-36页 |
| 3.2 钯膜生长模型 | 第36-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 多孔不锈钢/Pd膜结构及性能 | 第38-51页 |
| 4.1 钯膜的结构及成分表征 | 第38-41页 |
| 4.1.1 钯膜形貌 | 第38-40页 |
| 4.1.2 钯膜物相 | 第40-41页 |
| 4.2 钯膜的性能表征 | 第41-50页 |
| 4.2.1 高温性能 | 第41-46页 |
| 4.2.2 气体渗透性能 | 第46-50页 |
| 4.2.3 气体选择性能 | 第50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 结论及下一步工作展望 | 第51-53页 |
| 5.1 主要结论 | 第51-52页 |
| 5.2 下一步工作展望 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的相关论文 | 第60页 |
| 攻读硕士学位期间参加的学术会议 | 第60页 |
