摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第13-30页 |
1.1 膜分离技术概论 | 第13页 |
1.2 耐溶剂纳滤 | 第13-14页 |
1.3 耐溶剂纳滤膜制备方法 | 第14-21页 |
1.3.1 相转化法 | 第14-16页 |
1.3.2 界面聚合法 | 第16-19页 |
1.3.3 聚电解质层层自组装 | 第19-21页 |
1.4 耐溶剂纳滤膜表面改性方法 | 第21-28页 |
1.4.1 紫外光诱导改性 | 第21-24页 |
1.4.2 等离子体改性 | 第24-25页 |
1.4.3 无机纳米颗粒掺杂改性 | 第25-28页 |
1.5 论文研究意义及内容 | 第28-30页 |
第二章 实验部分 | 第30-43页 |
2.1 实验原料及仪器设备 | 第30-32页 |
2.2 HEC/SiO_2 纳滤膜的制备 | 第32页 |
2.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的表征 | 第32-35页 |
2.3.1 傅立叶红外光谱(FTIR)分析 | 第32-33页 |
2.3.2 热场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)分析 | 第33页 |
2.3.3 原子力显微镜(AFM)分析 | 第33-34页 |
2.3.4 纳滤膜表面电荷分析 | 第34页 |
2.3.5 纳滤膜表面水接触角分析测定 | 第34-35页 |
2.4 HEC/SiO_2 纳滤膜的分离性能评价 | 第35-40页 |
2.4.1 截留分子量(MWCO)和有效孔径 | 第36-38页 |
2.4.2 染料分离性能测试 | 第38-40页 |
2.5 HEC/SiO_2 纳滤膜的耐酸碱性能测试 | 第40-41页 |
2.6 HEC/SiO_2 纳滤膜的耐溶剂性能测试 | 第41-43页 |
2.6.1 溶胀度测试 | 第41页 |
2.6.2 静态浸泡测试 | 第41页 |
2.6.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的运行稳定性测试 | 第41-42页 |
2.6.4 HEC/SiO_2 纳滤膜的动态分离测试 | 第42-43页 |
第三章 二氧化硅原位交联纳滤膜的制备及表征 | 第43-68页 |
3.1 二氧化硅原位交联纳滤膜的制备 | 第43-59页 |
3.1.1 二氧化硅原位交联反应机理 | 第44-46页 |
3.1.2 正硅酸乙酯水解时间对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响 | 第46-50页 |
3.1.3 羟乙基纤维素含量对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响 | 第50-54页 |
3.1.4 正硅酸乙酯含量对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响 | 第54-57页 |
3.1.5 涂敷时间对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响 | 第57-58页 |
3.1.6 热处理温度对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响 | 第58-59页 |
3.2 HEC/SiO_2 纳滤膜的表征 | 第59-66页 |
3.2.1 膜表面化学结构分析 | 第59-61页 |
3.2.2 膜表面及断面形貌分析 | 第61-62页 |
3.2.3 膜表面形态分析 | 第62-64页 |
3.2.4 膜表面荷电性分析 | 第64-65页 |
3.2.5 膜表面亲水性分析 | 第65-66页 |
3.3 膜制备工艺重复探究 | 第66-67页 |
3.4 本章小结 | 第67-68页 |
第四章 二氧化硅原位交联复合纳滤膜的分离性能研究 | 第68-76页 |
4.1 截留分子量(MWCO)及有效孔径的测定 | 第68-70页 |
4.2 HEC/SiO_2 纳滤膜对无机盐分离性能测定 | 第70-71页 |
4.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的染料分离性能 | 第71-73页 |
4.4 HEC/SiO_2 纳滤膜的耐酸碱性能研究 | 第73-74页 |
4.5 本章小结 | 第74-76页 |
第五章 二氧化硅原位交联复合膜的耐溶剂性能研究 | 第76-85页 |
5.1 HEC/SiO_2 纳滤膜的短期耐溶剂性能测试 | 第76-79页 |
5.2 HEC/SiO_2 纳滤膜的长期耐溶剂性能测试 | 第79-80页 |
5.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的运行稳定性测试 | 第80-81页 |
5.4 有机溶剂体系中 HEC/ SiO_2纳滤膜对染料的分离性能测试 | 第81-83页 |
5.5 本章小结 | 第83-85页 |
第六章 结论与展望 | 第85-87页 |
6.1 结论 | 第85-86页 |
6.2 展望 | 第86-87页 |
参考文献 | 第87-101页 |
致谢 | 第101-102页 |
攻读硕士学位期间发表论文 | 第102页 |