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二氧化硅原位交联耐溶剂复合纳滤膜的制备及其性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第13-30页
    1.1 膜分离技术概论第13页
    1.2 耐溶剂纳滤第13-14页
    1.3 耐溶剂纳滤膜制备方法第14-21页
        1.3.1 相转化法第14-16页
        1.3.2 界面聚合法第16-19页
        1.3.3 聚电解质层层自组装第19-21页
    1.4 耐溶剂纳滤膜表面改性方法第21-28页
        1.4.1 紫外光诱导改性第21-24页
        1.4.2 等离子体改性第24-25页
        1.4.3 无机纳米颗粒掺杂改性第25-28页
    1.5 论文研究意义及内容第28-30页
第二章 实验部分第30-43页
    2.1 实验原料及仪器设备第30-32页
    2.2 HEC/SiO_2 纳滤膜的制备第32页
    2.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的表征第32-35页
        2.3.1 傅立叶红外光谱(FTIR)分析第32-33页
        2.3.2 热场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)分析第33页
        2.3.3 原子力显微镜(AFM)分析第33-34页
        2.3.4 纳滤膜表面电荷分析第34页
        2.3.5 纳滤膜表面水接触角分析测定第34-35页
    2.4 HEC/SiO_2 纳滤膜的分离性能评价第35-40页
        2.4.1 截留分子量(MWCO)和有效孔径第36-38页
        2.4.2 染料分离性能测试第38-40页
    2.5 HEC/SiO_2 纳滤膜的耐酸碱性能测试第40-41页
    2.6 HEC/SiO_2 纳滤膜的耐溶剂性能测试第41-43页
        2.6.1 溶胀度测试第41页
        2.6.2 静态浸泡测试第41页
        2.6.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的运行稳定性测试第41-42页
        2.6.4 HEC/SiO_2 纳滤膜的动态分离测试第42-43页
第三章 二氧化硅原位交联纳滤膜的制备及表征第43-68页
    3.1 二氧化硅原位交联纳滤膜的制备第43-59页
        3.1.1 二氧化硅原位交联反应机理第44-46页
        3.1.2 正硅酸乙酯水解时间对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响第46-50页
        3.1.3 羟乙基纤维素含量对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响第50-54页
        3.1.4 正硅酸乙酯含量对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响第54-57页
        3.1.5 涂敷时间对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响第57-58页
        3.1.6 热处理温度对 HEC/SiO_2纳滤膜的影响第58-59页
    3.2 HEC/SiO_2 纳滤膜的表征第59-66页
        3.2.1 膜表面化学结构分析第59-61页
        3.2.2 膜表面及断面形貌分析第61-62页
        3.2.3 膜表面形态分析第62-64页
        3.2.4 膜表面荷电性分析第64-65页
        3.2.5 膜表面亲水性分析第65-66页
    3.3 膜制备工艺重复探究第66-67页
    3.4 本章小结第67-68页
第四章 二氧化硅原位交联复合纳滤膜的分离性能研究第68-76页
    4.1 截留分子量(MWCO)及有效孔径的测定第68-70页
    4.2 HEC/SiO_2 纳滤膜对无机盐分离性能测定第70-71页
    4.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的染料分离性能第71-73页
    4.4 HEC/SiO_2 纳滤膜的耐酸碱性能研究第73-74页
    4.5 本章小结第74-76页
第五章 二氧化硅原位交联复合膜的耐溶剂性能研究第76-85页
    5.1 HEC/SiO_2 纳滤膜的短期耐溶剂性能测试第76-79页
    5.2 HEC/SiO_2 纳滤膜的长期耐溶剂性能测试第79-80页
    5.3 HEC/SiO_2 纳滤膜的运行稳定性测试第80-81页
    5.4 有机溶剂体系中 HEC/ SiO_2纳滤膜对染料的分离性能测试第81-83页
    5.5 本章小结第83-85页
第六章 结论与展望第85-87页
    6.1 结论第85-86页
    6.2 展望第86-87页
参考文献第87-101页
致谢第101-102页
攻读硕士学位期间发表论文第102页

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