| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 纳滤技术概述 | 第10-12页 |
| 1.2 复合膜概述 | 第12-13页 |
| 1.3 二维纳米材料分离膜概述 | 第13-14页 |
| 1.4 MoS_2纳米片在环境领域的应用 | 第14-16页 |
| 1.4.1 MoS_2的基本特性与结构 | 第14页 |
| 1.4.2 MoS_2纳米片的合成方法 | 第14-15页 |
| 1.4.3 MoS_2在污染物吸附中的应用 | 第15页 |
| 1.4.4 MoS_2在光催化中的应用 | 第15-16页 |
| 1.4.5 MoS_2在膜分离领域中的应用 | 第16页 |
| 1.5 本课题研究的目的和意义 | 第16-17页 |
| 1.6 本课题研究的主要内容 | 第17页 |
| 1.7 课题来源 | 第17-18页 |
| 第2章 实验部分 | 第18-26页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第18-19页 |
| 2.1.1 实验材料与试剂 | 第18页 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 | 第18-19页 |
| 2.2 MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的制备 | 第19-20页 |
| 2.2.1 MoS_2的制备 | 第19页 |
| 2.2.2 聚丙烯腈基膜的水解改性 | 第19-20页 |
| 2.2.3 PDDA@MoS_2-PDDA/PSS杂化膜的制备 | 第20页 |
| 2.3 陶瓷管式MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的制备 | 第20-21页 |
| 2.3.1 陶瓷基膜的预处理 | 第20-21页 |
| 2.3.2 陶瓷管式PSS/PDDA@MoS_2-PDDA杂化膜的制备 | 第21页 |
| 2.4 原位生长MoS_2/陶瓷管式复合膜 | 第21-22页 |
| 2.5 纳滤性能的评价装置及方法 | 第22-23页 |
| 2.5.1 纳滤的评价装置 | 第22-23页 |
| 2.5.2 纳滤性能的评价方法 | 第23页 |
| 2.6 MoS_2纳米片的表征方法 | 第23-24页 |
| 2.6.1 X射线衍射(XRD) | 第23页 |
| 2.6.2 X射线光电子能谱分析仪(XPS) | 第23页 |
| 2.6.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
| 2.6.4 透射电子显微镜(TEM) | 第24页 |
| 2.7 纳滤膜的表征 | 第24-26页 |
| 2.7.1 Zeta电位 | 第24页 |
| 2.7.2 扫描电子显微镜(SEM)和X射线能量色谱散射仪(EDS) | 第24页 |
| 2.7.3 原子力显微镜(AFM) | 第24页 |
| 2.7.4 X射线衍射(XRD) | 第24页 |
| 2.7.5 负载量的计算 | 第24-26页 |
| 第3章 LbL技术制备MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜及其分离性能研究 | 第26-38页 |
| 3.1 MoS_2纳米片的结构和形貌表征 | 第26-28页 |
| 3.2 不同成膜条件下MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的结构与形貌表征 | 第28-30页 |
| 3.3 不同成膜条件对MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜性能的影响 | 第30-33页 |
| 3.4 MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的分离性能及其稳定性 | 第33-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 管式MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的制备及其分离性能研究 | 第38-44页 |
| 4.1 管式MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的形貌表征 | 第38-39页 |
| 4.2 不同制备条件下管式MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的分离性能 | 第39-42页 |
| 4.3 管式MoS_2/聚电解质杂化纳滤膜的运行稳定性 | 第42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第5章 水热法原位生长MoS_2/陶瓷管式复合膜及其分离性能研究 | 第44-56页 |
| 5.1 MoS_2/陶瓷管式复合膜的结构和形貌表征 | 第44-49页 |
| 5.2 不同生长条件对MoS_2/陶瓷管式复合膜负载量的影响 | 第49-50页 |
| 5.3 不同生长条件对MoS_2/陶瓷管式复合膜的纳滤性能影响 | 第50-52页 |
| 5.4 MoS_2/陶瓷管式复合膜的分离性能及其稳定性 | 第52-54页 |
| 5.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻读硕士期间发表的学术成果 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
