摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-30页 |
1.1 电介质概述 | 第10-18页 |
1.1.1 电介质的极化与弛豫 | 第10-12页 |
1.1.2 电介质的击穿场强 | 第12-13页 |
1.1.3 介电复合材料的理论模型 | 第13-17页 |
1.1.4 介电复合材料的连接类型 | 第17-18页 |
1.2 电介质材料的储能密度 | 第18-20页 |
1.2.1 储能密度理论计算 | 第18-19页 |
1.2.2 电介质复合材料储能密度研究挑战 | 第19-20页 |
1.3 电介质材料微观结构与界面 | 第20-23页 |
1.3.1 两相电介质复合材料 | 第20-22页 |
1.3.2 三相电介质复合材料 | 第22-23页 |
1.4 电介质复合材料的成型工艺 | 第23-26页 |
1.4.1 直接共混 | 第23-24页 |
1.4.2 熔融共混 | 第24-25页 |
1.4.3 液相辅助分散 | 第25页 |
1.4.4 原位聚合法 | 第25-26页 |
1.5 氮化硼 | 第26-28页 |
1.5.1 六方氮化硼的性能与应用 | 第26-27页 |
1.5.2 氮化硼纳米片的制备 | 第27-28页 |
1.6 课题的提出及其意义 | 第28-29页 |
1.7 本论文的主要研究内容 | 第29-30页 |
第2章 氮化硼纳米片的剥离制备 | 第30-39页 |
2.1 引言 | 第30-31页 |
2.2 实验部分 | 第31-32页 |
2.2.1 实验原材料 | 第31页 |
2.2.2 实验仪器 | 第31页 |
2.2.3 实验步骤 | 第31页 |
2.2.4 测试与表征 | 第31-32页 |
2.3 结果与讨论 | 第32-37页 |
2.3.1 XRD分析 | 第32-33页 |
2.3.2 TEM分析 | 第33-34页 |
2.3.3 SEM分析 | 第34-35页 |
2.3.4 AFM分析 | 第35页 |
2.3.5 FTIR分析 | 第35-36页 |
2.3.6 XPS分析 | 第36页 |
2.3.7 剥离机理的探讨 | 第36-37页 |
2.4 本章小结 | 第37-39页 |
第3章 BNNS/PI复合薄膜的制备 | 第39-48页 |
3.1 引言 | 第39页 |
3.2 实验部分 | 第39-42页 |
3.2.1 实验原材料 | 第39-40页 |
3.2.2 实验仪器 | 第40页 |
3.2.3 实验步骤 | 第40-41页 |
3.2.4 测试与表征 | 第41-42页 |
3.3 结果与讨论 | 第42-47页 |
3.3.1 BNNS/PI复合薄膜的XRD分析 | 第42页 |
3.3.2 BNNS/PI复合薄膜的介电性能分析 | 第42-43页 |
3.3.3 BNNS/PI复合薄膜的电击穿场强分析 | 第43-44页 |
3.3.4 BNNS/PI复合薄膜的热稳定性分析 | 第44-45页 |
3.3.5 150 ℃下复合薄膜的储能密度分析 | 第45-46页 |
3.3.6 BNNS/PI复合薄膜的断面形貌分析 | 第46-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-48页 |
第4章 BT/BNNS/PI三相复合薄膜的制备 | 第48-58页 |
4.1 引言 | 第48-49页 |
4.2 实验部分 | 第49-51页 |
4.2.1 实验原材料 | 第49页 |
4.2.2 实验仪器 | 第49页 |
4.2.3 实验步骤 | 第49-50页 |
4.2.4 测试与表征 | 第50-51页 |
4.3 结果与讨论 | 第51-56页 |
4.3.1 结构表征 | 第51-52页 |
4.3.2 介电性能的分析 | 第52-53页 |
4.3.3 复合薄膜电击穿场强分析 | 第53-54页 |
4.3.4 复合薄膜的储能密度分析 | 第54页 |
4.3.5 复合薄膜的力学性能分析 | 第54-55页 |
4.3.6 150 ℃下复合薄膜的储能密度分析 | 第55-56页 |
4.4 小结 | 第56-58页 |
第5章 结论 | 第58-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-68页 |
攻读硕士学位期间发表论文 | 第68页 |