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约束刻蚀剂层技术中电极刻蚀过程的仿真与实验研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-19页
    1.1 课题来源及研究的背景和意义第9-11页
        1.1.1 课题的来源第9页
        1.1.2 课题研究的背景和意义第9-11页
    1.2 国内外研究现状与分析第11-18页
        1.2.1 电化学微纳加工技术概述第11-14页
        1.2.2 约束刻蚀剂层技术(CELT)的研究现状第14-18页
    1.3 论文的主要研究内容第18-19页
第2章 电化学约束刻蚀过程的仿真研究第19-36页
    2.1 引言第19页
    2.2 旋转流场下CELT加工的仿真研究第19-32页
        2.2.1 旋转圆盘(矩形)电极二维轴对称模型第20-25页
        2.2.2 旋转圆盘(矩形)电极三维瞬态动网格模型第25-28页
        2.2.3 非自转旋转二维轴对称模型第28-32页
    2.3 阵列电极CELT加工的仿真研究第32-35页
    2.4 本章小结第35-36页
第3章 电化学约束刻蚀实验的实现方法第36-51页
    3.1 引言第36页
    3.2 实验系统第36-42页
        3.2.1 实验仪器的介绍第36-38页
        3.2.2 回转中心与样品倾斜量的标定第38-41页
        3.2.3 扫描力显微镜(SFM)检测功能第41-42页
        3.2.4 电化学约束刻蚀体系的介绍第42页
    3.3 电极的制作过程及其电化学检测第42-49页
        3.3.1 电极的制作过程第43-46页
        3.3.2 电极的电化学检测第46-49页
    3.4 实验结果检测仪器第49-50页
    3.5 本章小结第50-51页
第4章 电化学约束刻蚀实验研究第51-72页
    4.1 引言第51页
    4.2 旋转流场下的电极约束刻蚀实验研究第51-60页
        4.2.1 圆盘电极约束刻蚀实验研究第52-56页
        4.2.2 矩形电极约束刻蚀实验研究第56-58页
        4.2.3 扇形电极约束刻蚀实验研究第58-60页
    4.3 圆盘阵列电极约束刻蚀实验研究第60-68页
        4.3.1 单通道切换控制电极刻蚀时间的实验研究第60-64页
        4.3.2 多通道控制电极刻蚀时间的实验研究第64-68页
    4.4 矩形阵列电极约束刻蚀微结构的实验研究第68-71页
    4.5 本章小结第71-72页
结论第72-73页
参考文献第73-78页
致谢第78页

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