摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第9-11页 |
1.1.1 课题的来源 | 第9页 |
1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第9-11页 |
1.2 国内外研究现状与分析 | 第11-18页 |
1.2.1 电化学微纳加工技术概述 | 第11-14页 |
1.2.2 约束刻蚀剂层技术(CELT)的研究现状 | 第14-18页 |
1.3 论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
第2章 电化学约束刻蚀过程的仿真研究 | 第19-36页 |
2.1 引言 | 第19页 |
2.2 旋转流场下CELT加工的仿真研究 | 第19-32页 |
2.2.1 旋转圆盘(矩形)电极二维轴对称模型 | 第20-25页 |
2.2.2 旋转圆盘(矩形)电极三维瞬态动网格模型 | 第25-28页 |
2.2.3 非自转旋转二维轴对称模型 | 第28-32页 |
2.3 阵列电极CELT加工的仿真研究 | 第32-35页 |
2.4 本章小结 | 第35-36页 |
第3章 电化学约束刻蚀实验的实现方法 | 第36-51页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 实验系统 | 第36-42页 |
3.2.1 实验仪器的介绍 | 第36-38页 |
3.2.2 回转中心与样品倾斜量的标定 | 第38-41页 |
3.2.3 扫描力显微镜(SFM)检测功能 | 第41-42页 |
3.2.4 电化学约束刻蚀体系的介绍 | 第42页 |
3.3 电极的制作过程及其电化学检测 | 第42-49页 |
3.3.1 电极的制作过程 | 第43-46页 |
3.3.2 电极的电化学检测 | 第46-49页 |
3.4 实验结果检测仪器 | 第49-50页 |
3.5 本章小结 | 第50-51页 |
第4章 电化学约束刻蚀实验研究 | 第51-72页 |
4.1 引言 | 第51页 |
4.2 旋转流场下的电极约束刻蚀实验研究 | 第51-60页 |
4.2.1 圆盘电极约束刻蚀实验研究 | 第52-56页 |
4.2.2 矩形电极约束刻蚀实验研究 | 第56-58页 |
4.2.3 扇形电极约束刻蚀实验研究 | 第58-60页 |
4.3 圆盘阵列电极约束刻蚀实验研究 | 第60-68页 |
4.3.1 单通道切换控制电极刻蚀时间的实验研究 | 第60-64页 |
4.3.2 多通道控制电极刻蚀时间的实验研究 | 第64-68页 |
4.4 矩形阵列电极约束刻蚀微结构的实验研究 | 第68-71页 |
4.5 本章小结 | 第71-72页 |
结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-78页 |
致谢 | 第78页 |