摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-28页 |
1.1 太阳电池发展与现状 | 第12-21页 |
1.1.1 能源危机与可再生能源 | 第12-15页 |
1.1.2 太阳电池发展及现状 | 第15-16页 |
1.1.3 晶体硅太阳电池 | 第16-19页 |
1.1.4 薄膜太阳电池 | 第19-21页 |
1.2 多晶硅薄膜太阳电池 | 第21-25页 |
1.2.1 多晶硅薄膜太阳电池 | 第21-22页 |
1.2.2 多晶硅薄膜太阳电池的结构与制备工艺 | 第22-24页 |
1.2.3 发展柔性多晶硅薄膜太阳电池的优势及意义 | 第24-25页 |
1.3 柔性多晶硅薄膜太阳电池 | 第25-26页 |
1.3.1 柔性多晶硅薄膜太阳电池制备关键问题 | 第25-26页 |
1.3.2 柔性多晶硅薄膜籽晶层概念提出 | 第26页 |
1.3.3 柔性多晶硅薄膜制备方法 | 第26页 |
1.4 本论文主要研究内容与安排 | 第26-28页 |
第2章 多晶硅薄膜制备系统与表征技术 | 第28-37页 |
2.1 多晶硅薄膜的制备方法 | 第28-32页 |
2.1.1 磁控溅射MSC系统 | 第28-30页 |
2.1.2 快速热退火RTA系统 | 第30页 |
2.1.3 对流辅助化学气相沉积CoCVD系统 | 第30-32页 |
2.2 多晶硅薄膜表征技术 | 第32-36页 |
2.2.1 X射线衍射 | 第32-34页 |
2.2.2 扫描电子显微镜 | 第34页 |
2.2.3 拉曼光谱 | 第34-35页 |
2.2.4 微波反射光电导衰减谱 | 第35-36页 |
2.3 本章小结 | 第36-37页 |
第3章 柔性多晶硅薄膜的制备 | 第37-44页 |
3.1 柔性石墨纸的特性与衬底选择 | 第37-38页 |
3.1.1 柔性石墨纸的特性与衬底选择 | 第37-38页 |
3.1.2 柔性石墨纸衬底的处理 | 第38页 |
3.2 柔性多晶硅薄膜的制备 | 第38-41页 |
3.2.1 磁控溅射制备工艺 | 第38-39页 |
3.2.2 快速热退火制备工艺 | 第39-40页 |
3.2.3 CoCVD制备工艺 | 第40-41页 |
3.3 引入ZnO过渡层柔性多晶硅薄膜的制备 | 第41-43页 |
3.3.1 ZnO的基本性质 | 第41-42页 |
3.3.2 ZnO过渡层的制备 | 第42-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-44页 |
第4章 柔性多晶硅薄膜的表征与分析 | 第44-61页 |
4.1 SEM测试表征 | 第44-47页 |
4.1.1 未引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜籽晶层SEM测试表征 | 第44-45页 |
4.1.2 未引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜SEM测试表征 | 第45-46页 |
4.1.3 引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜SEM测试表征 | 第46-47页 |
4.2 XRD测试表征 | 第47-53页 |
4.2.1 未引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜籽晶层XRD测试表征 | 第47-49页 |
4.2.2 未引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜XRD测试表征 | 第49-50页 |
4.2.3 引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜籽晶层XRD测试表征 | 第50-51页 |
4.2.4 引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜XRD测试表征 | 第51-52页 |
4.2.5 不同CoCVD反应时间柔性多晶硅薄膜XRD测试表征 | 第52-53页 |
4.3 拉曼光谱测试表征 | 第53-55页 |
4.3.1 柔性多晶硅薄膜籽晶层的拉曼光谱测试表征 | 第53-54页 |
4.3.2 柔性多晶硅薄膜的拉曼光谱测试表征 | 第54-55页 |
4.4 μ-PCD谱测试表征 | 第55-56页 |
4.5 择优取向成因初步分析 | 第56-60页 |
4.5.1 柔性多晶硅薄膜具有(220)择优取向成因分析 | 第56-58页 |
4.5.2 引入ZnO过渡层的柔性多晶硅薄膜具有(400)择优取向成因分析 | 第58-60页 |
4.6 本章小结 | 第60-61页 |
第5章 结论与展望 | 第61-63页 |
5.1 本文的主要成果 | 第61-62页 |
5.2 本文的不足之处及未来工作建议 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |