| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| 1.1 课题的背景、价值与意义 | 第10-11页 |
| 1.2 课题的研究历史、现状和存在的问题 | 第11-12页 |
| 1.3 本论文的主要工作 | 第12-13页 |
| 1.4 本章小结 | 第13-14页 |
| 第二章 恒流发射碳纳米管阵列的模型设计 | 第14-19页 |
| 2.1 模型的提出 | 第14-15页 |
| 2.2 模型的设计 | 第15-18页 |
| 2.3 本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 恒流二极管的结构及制备工艺和碳纳米管的生长工艺 | 第19-27页 |
| 3.1 恒流二极管的结构 | 第19-20页 |
| 3.2 恒流二极管制备工艺 | 第20-25页 |
| 3.2.1 光刻 | 第20-22页 |
| 3.2.1.1 光刻工艺的原理 | 第20-21页 |
| 3.2.1.2 光刻的工艺步骤及目的 | 第21页 |
| 3.2.1.3 光刻胶的作用与要求 | 第21-22页 |
| 3.2.2 氧化 | 第22-23页 |
| 3.2.3 扩散 | 第23-24页 |
| 3.2.4 刻蚀 | 第24-25页 |
| 3.2.5 蒸发镀膜 | 第25页 |
| 3.3 碳纳米管的制备 | 第25-26页 |
| 3.3.1 微波等离子体化学气相沉积法 | 第26页 |
| 3.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第四章 恒流二极管的设计 | 第27-32页 |
| 4.1 恒流二极管的设计 | 第27-29页 |
| 4.2 恒流二极管掩模板版图的制备 | 第29-31页 |
| 4.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 恒流二极管的制备 | 第32-58页 |
| 5.1 氧化 | 第32-33页 |
| 5.2 隔离层 | 第33-39页 |
| 5.2.1 光刻隔离层 | 第34-36页 |
| 5.2.2 刻蚀隔离层 | 第36-37页 |
| 5.2.3 B预扩 | 第37-38页 |
| 5.2.4 B再扩与氧化 | 第38-39页 |
| 5.3 栅极 | 第39-43页 |
| 5.3.1 光刻栅极 | 第40-41页 |
| 5.3.2 刻蚀栅极 | 第41页 |
| 5.3.3 B预扩 | 第41-42页 |
| 5.3.4 B再扩氧化 | 第42-43页 |
| 5.4 源漏极 | 第43-47页 |
| 5.4.1 光刻源漏极 | 第44页 |
| 5.4.2 刻蚀源漏极 | 第44-45页 |
| 5.4.3 P预扩 | 第45页 |
| 5.4.4 吹氧 | 第45-47页 |
| 5.5 电极接触孔 | 第47-49页 |
| 5.5.1 光刻电极接触孔 | 第47页 |
| 5.5.2 刻蚀电极接触孔 | 第47-49页 |
| 5.6 测试电极 | 第49-51页 |
| 5.6.1 光刻电极 | 第49-50页 |
| 5.6.2 电极制备 | 第50-51页 |
| 5.7 恒流二极管性能测试 | 第51-54页 |
| 5.8 电极 | 第54-57页 |
| 5.8.1 去铝 | 第56页 |
| 5.8.2 光刻电极 | 第56页 |
| 5.8.3 电极制备 | 第56-57页 |
| 5.9 本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 碳纳米管的生长及场致发射测试 | 第58-64页 |
| 6.1 碳纳米管的生长 | 第58-62页 |
| 6.1.1 光刻催化剂阵列 | 第58-59页 |
| 6.1.2 切片 | 第59页 |
| 6.1.3 镀隔离层和催化剂阵列 | 第59-60页 |
| 6.1.4 碳纳米管生长 | 第60-62页 |
| 6.2 碳纳米管场致发射测试 | 第62-63页 |
| 6.3 本章小结 | 第63-64页 |
| 第七章 总结与展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第70-71页 |