| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| 1.1 选题意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-17页 |
| 1.2.1 硐室渗流研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.2 高密度电阻率成像法研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3 研究内容和技术路线 | 第17-19页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第17-18页 |
| 1.3.2 技术路线 | 第18-19页 |
| 第二章 电法监测环硐室水分运移的基本理论 | 第19-30页 |
| 2.1 岩土体电性差异理论 | 第19-20页 |
| 2.1.1 阿尔奇(Archie)公式 | 第19页 |
| 2.1.2 阿尔奇(Archie)公式在砂土渗流中的应用 | 第19-20页 |
| 2.2 电法场源理论与高密度电阻率成像法理论 | 第20-30页 |
| 2.2.1 全空间点源电场理论 | 第20-22页 |
| 2.2.2 半球地形中点源场电位理论 | 第22-25页 |
| 2.2.3 电法测定数据的位置标定 | 第25-28页 |
| 2.2.4 边界效应对视电阻率的影响 | 第28-30页 |
| 第三章 内视高密度电阻率法的正演模拟 | 第30-43页 |
| 3.1 正演模拟理论 | 第30-31页 |
| 3.2 内视监测条件下标定位置的计算 | 第31-36页 |
| 3.3 复杂地电介质条件下模拟验证 | 第36-42页 |
| 3.3.1 球柱状异常体条件下视电阻率响应特征 | 第36-38页 |
| 3.3.2 条带状异常条件下体视电阻率响应特征 | 第38-40页 |
| 3.3.3 复合异常体条件下视电阻率响应特征 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 环硐室多孔介质水分运移过程的二维内视成像分析 | 第43-73页 |
| 4.1 试验设备与装置 | 第43-46页 |
| 4.2 均质砂土饱和排水过程分析 | 第46-55页 |
| 4.3 均质砂土水平点源入渗过程分析 | 第55-61页 |
| 4.4 非均质砂土入渗-硐室排水过程分析 | 第61-68页 |
| 4.5 非均质砂土硐室-底部排水过程分析 | 第68-72页 |
| 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 5.1 结论 | 第73-74页 |
| 5.2 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |