| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 课题背景和意义 | 第9页 |
| 1.2 氮化铝的研究进展 | 第9-12页 |
| 1.2.1 氮化铝国外研究进展 | 第10-11页 |
| 1.2.2 氮化铝国内研究进展 | 第11-12页 |
| 1.3 氮化铝概述 | 第12-17页 |
| 1.3.1 氮化铝的晶体结构 | 第12-14页 |
| 1.3.2 氮化铝的性能 | 第14-15页 |
| 1.3.3 氮化铝的应用 | 第15-17页 |
| 1.4 氮化铝薄膜生长方法 | 第17-22页 |
| 1.4.1 磁控溅射法 | 第17-20页 |
| 1.4.2 脉冲激光沉积 | 第20-21页 |
| 1.4.3 分子束外延 | 第21-22页 |
| 1.4.4 化学气相沉积 | 第22页 |
| 1.5 文章研究的内容 | 第22-24页 |
| 第2章 氮化铝薄膜样品制备及表征方法 | 第24-33页 |
| 2.1 样品制备技术 | 第24-27页 |
| 2.1.1 磁控溅射设备 | 第24页 |
| 2.1.2 衬底的选择 | 第24-25页 |
| 2.1.3 薄膜的沉积过程 | 第25-27页 |
| 2.2 表征技术及设备 | 第27-33页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第27-28页 |
| 2.2.2 原子力显微扫描电镜 | 第28-29页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜测试 | 第29-30页 |
| 2.2.4 紫外可见分光光度计 | 第30-31页 |
| 2.2.5 伏安测试 | 第31页 |
| 2.2.6 霍尔测试 | 第31-32页 |
| 2.2.7 拉曼散射测试 | 第32-33页 |
| 第3章 磁控溅射参数对氮化铝薄膜性能的影响 | 第33-50页 |
| 3.1 不同溅射功率下沉积AlN薄膜 | 第33-39页 |
| 3.1.1 AlN薄膜的结构表征及分析 | 第34-37页 |
| 3.1.2 AlN薄膜的表面形貌 | 第37-38页 |
| 3.1.3 AlN薄膜的三维形貌 | 第38-39页 |
| 3.2 不同溅射压强下沉积AlN薄膜 | 第39-43页 |
| 3.2.1 AlN薄膜的结构表征及分析 | 第40-42页 |
| 3.2.2 AlN薄膜的表面形貌 | 第42页 |
| 3.2.3 AlN薄膜的三维形貌 | 第42-43页 |
| 3.3 不同氮氩比下沉积AlN薄膜 | 第43-48页 |
| 3.3.1 AlN薄膜的结构表征及分析 | 第44-46页 |
| 3.3.2 AlN薄膜的表面形貌 | 第46-47页 |
| 3.3.3 AlN薄膜的三维形貌 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第4章 不同衬底对氮化铝薄膜的影响 | 第50-66页 |
| 4.1 不同衬底上沉积AlN薄膜 | 第50-56页 |
| 4.1.1 AlN薄膜的结构表征及分析 | 第51-53页 |
| 4.1.2 AlN薄膜的表面形貌 | 第53-54页 |
| 4.1.3 AlN薄膜的三维形貌 | 第54-55页 |
| 4.1.4 AlN薄膜的电学性能 | 第55-56页 |
| 4.2 蓝宝石上沉积的AlN薄膜的电学性能和光学性能表征分析 | 第56-62页 |
| 4.2.1 蓝宝石衬底生长AlN薄膜的溅射速率 | 第56-57页 |
| 4.2.2 SEM表征及分析 | 第57-58页 |
| 4.2.3 电学性能表征及分析 | 第58-60页 |
| 4.2.4 吸收光谱表征及分析 | 第60-61页 |
| 4.2.5 拉曼散射光谱表征及分析 | 第61-62页 |
| 4.3 氮化铝/硅p-n结的制备及电学性能表征分析 | 第62-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73页 |