| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 金刚石的晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.2 金刚石性能及应用 | 第12-15页 |
| 1.2.1 CVD金刚石的力学性能及应用 | 第12-13页 |
| 1.2.2 CVD金刚石的电学性能及应用 | 第13页 |
| 1.2.3 CVD金刚石的热学性能及应用 | 第13-14页 |
| 1.2.4 CVD金刚石的光学性能及应用 | 第14-15页 |
| 1.3 CVD金刚石的制备方法 | 第15-19页 |
| 1.3.1 CVD金刚石的生长机理 | 第15-17页 |
| 1.3.2 热丝CVD法 | 第17页 |
| 1.3.3 直流等离子体喷射CVD法 | 第17-18页 |
| 1.3.4 微波等离子体CVD法 | 第18-19页 |
| 1.4 微波等离子体CVD金刚石的国内外发展现状 | 第19-24页 |
| 1.4.1 国外MPCVD装置及沉积技术发展现状 | 第20-22页 |
| 1.4.2 国内MPCVD装置及沉积技术的发展现状 | 第22-23页 |
| 1.4.3 武汉工程大学研究MPCVD金刚石膜技术成果及现状 | 第23-24页 |
| 1.5 本文研究的意义和内容 | 第24-27页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-27页 |
| 第2章 实验装置与结果表征 | 第27-35页 |
| 2.1 微波等离子体化学气相沉积装置 | 第27-30页 |
| 2.2 实验基本参数选择 | 第30-31页 |
| 2.3 基本工艺流程 | 第31-32页 |
| 2.4 结果表征方法 | 第32-35页 |
| 2.4.1 光学金相显微镜 | 第33页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜 | 第33页 |
| 2.4.3 原子力显微镜 | 第33页 |
| 2.4.4 激光拉曼光谱 | 第33-34页 |
| 2.4.5 X射线衍射谱 | 第34-35页 |
| 第3章 不同表面预处理方法对金刚石膜的制备研究 | 第35-45页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 不同预处理方法对基片的影响 | 第36-38页 |
| 3.3 不同预处理方法对形核的影响 | 第38-41页 |
| 3.4 不同预处理方法对金刚石生长的影响 | 第41-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 高质量高取向（100）面金刚石膜可控性生长研究 | 第45-57页 |
| 4.1 基片温度和甲烷浓度对金刚石膜表面形貌的影响 | 第47-50页 |
| 4.2 基片温度和甲烷浓度对金刚石膜质量的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 基片温度和甲烷浓度间的耦合效应对金刚石膜取向的影响 | 第51-54页 |
| 4.4 基片温度与碳源浓度间的耦合效应对金刚石膜生长率的影响 | 第54-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 辅助气体对金刚石膜沉积影响的研究 | 第57-71页 |
| 5.1 辅助气体对金刚石膜SEM形貌的影响 | 第58-59页 |
| 5.2 辅助气体对金刚石膜品质的影响 | 第59-61页 |
| 5.3 辅助气体对金刚石膜生长率的影响 | 第61-62页 |
| 5.4 辅助气体参与下微纳米双层金刚石膜的生长研究 | 第62-68页 |
| 5.4.1 二氧化碳浓度对微/纳米金刚石膜表面形貌的影响 | 第64-66页 |
| 5.4.2 二氧化碳浓度对微/纳米金刚石膜品质及结构的影响 | 第66-67页 |
| 5.4.3 二氧化碳浓度对微/纳米金刚石膜生长率的影响 | 第67-68页 |
| 5.5 本章小结 | 第68-71页 |
| 第6章 论文总结与展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
