摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第9-23页 |
1.1 半导体光催化简介 | 第9-14页 |
1.1.1 研究背景 | 第9页 |
1.1.2 半导体光催化基本原理 | 第9-11页 |
1.1.3 提高半导体光催化剂性能的途径 | 第11-14页 |
1.2 类水滑石层状化合物的简介 | 第14-21页 |
1.2.1 类水滑石层状化合物的组成结构 | 第14-15页 |
1.2.2 类水滑石层状化合物的性质 | 第15-16页 |
1.2.3 类水滑石层状化合物的插层组装 | 第16-19页 |
1.2.4 类水滑石层状化合物在光催化应用中的研究进展 | 第19-21页 |
1.3 本论文的选题意义与研究内容 | 第21-23页 |
第2章 ZnAl–PW_(11)O_(39)的制备及光催化性能 | 第23-41页 |
2.1 实验部分 | 第23-27页 |
2.1.1 主要试剂和仪器 | 第23-24页 |
2.1.2 ZnAl-LDH 的制备 | 第24页 |
2.1.3 ZnAl-LDH 纳米片层的制备 | 第24页 |
2.1.4 ZnAl–PW_(11)O_(39)的制备 | 第24-25页 |
2.1.5 材料的测试与表征 | 第25页 |
2.1.6 光催化活性测试 | 第25-27页 |
2.2 结果与讨论 | 第27-40页 |
2.2.1 ZnAl-LDH 纳米片层的表面ζ电位 | 第27-28页 |
2.2.2 XRD 分析 | 第28-29页 |
2.2.3 FT-IR 谱 | 第29-30页 |
2.2.4 形貌分析 | 第30-31页 |
2.2.5 TG-DTA 曲线 | 第31-32页 |
2.2.6 N_2吸附-脱附曲线 | 第32-33页 |
2.2.7 UV-Vis DRS 谱 | 第33-34页 |
2.2.8 XPS 谱 | 第34-36页 |
2.2.9 光电化学性质 | 第36-37页 |
2.2.10 光催化活性 | 第37-40页 |
2.3 结论 | 第40-41页 |
第3章 ZnAl–CdS 的制备及光催化性能 | 第41-53页 |
3.1 实验部分 | 第41-43页 |
3.1.1 主要试剂和仪器 | 第41页 |
3.1.2 CdS 溶胶的制备 | 第41-42页 |
3.1.3 ZnAl–CdS 的制备 | 第42页 |
3.1.4 材料的测试与表征 | 第42页 |
3.1.5 光催化活性测试 | 第42-43页 |
3.2 结果与讨论 | 第43-51页 |
3.2.1 XRD 分析 | 第43-44页 |
3.2.2 FT-IR 谱 | 第44-45页 |
3.2.3 N_2吸附-脱附曲线 | 第45-46页 |
3.2.4 UV-Vis DRS 谱 | 第46-47页 |
3.2.5 XPS 谱 | 第47-48页 |
3.2.6 光电化学性质 | 第48-49页 |
3.2.7 光催化活性 | 第49-51页 |
3.3 结论 | 第51-53页 |
第4章 ZnAl–Ti_3O_7的制备及光催化性能 | 第53-66页 |
4.1 实验部分 | 第54-55页 |
4.1.1 主要试剂和仪器 | 第54页 |
4.1.2 H_2Ti_3O_7的制备 | 第54页 |
4.1.3 H_2Ti_3O_7纳米片层的制备 | 第54页 |
4.1.4 ZnAl–Ti_3O_7的制备 | 第54-55页 |
4.1.5 材料的测试与表征 | 第55页 |
4.1.6 光催化活性测试 | 第55页 |
4.2 结果与讨论 | 第55-64页 |
4.2.1 H_2Ti_3O_7纳米片层的表面ζ电位 | 第55页 |
4.2.2 XRD 分析 | 第55-56页 |
4.2.3 形貌分析 | 第56-58页 |
4.2.4 N_2吸附-脱附曲线 | 第58-59页 |
4.2.5 UV-Vis DRS 谱 | 第59-60页 |
4.2.6 XPS 谱 | 第60-61页 |
4.2.7 光电化学性质 | 第61-62页 |
4.2.8 光催化活性 | 第62-64页 |
4.3 结论 | 第64-66页 |
第5章 总结 | 第66-68页 |
5.1 本论文实验工作的主要结论 | 第66-67页 |
5.2 本论文的主要创新点和贡献 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第84页 |