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插层改性ZnAl类水滑石复合材料的制备及光催化性能研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第9-23页
    1.1 半导体光催化简介第9-14页
        1.1.1 研究背景第9页
        1.1.2 半导体光催化基本原理第9-11页
        1.1.3 提高半导体光催化剂性能的途径第11-14页
    1.2 类水滑石层状化合物的简介第14-21页
        1.2.1 类水滑石层状化合物的组成结构第14-15页
        1.2.2 类水滑石层状化合物的性质第15-16页
        1.2.3 类水滑石层状化合物的插层组装第16-19页
        1.2.4 类水滑石层状化合物在光催化应用中的研究进展第19-21页
    1.3 本论文的选题意义与研究内容第21-23页
第2章 ZnAl–PW_(11)O_(39)的制备及光催化性能第23-41页
    2.1 实验部分第23-27页
        2.1.1 主要试剂和仪器第23-24页
        2.1.2 ZnAl-LDH 的制备第24页
        2.1.3 ZnAl-LDH 纳米片层的制备第24页
        2.1.4 ZnAl–PW_(11)O_(39)的制备第24-25页
        2.1.5 材料的测试与表征第25页
        2.1.6 光催化活性测试第25-27页
    2.2 结果与讨论第27-40页
        2.2.1 ZnAl-LDH 纳米片层的表面ζ电位第27-28页
        2.2.2 XRD 分析第28-29页
        2.2.3 FT-IR 谱第29-30页
        2.2.4 形貌分析第30-31页
        2.2.5 TG-DTA 曲线第31-32页
        2.2.6 N_2吸附-脱附曲线第32-33页
        2.2.7 UV-Vis DRS 谱第33-34页
        2.2.8 XPS 谱第34-36页
        2.2.9 光电化学性质第36-37页
        2.2.10 光催化活性第37-40页
    2.3 结论第40-41页
第3章 ZnAl–CdS 的制备及光催化性能第41-53页
    3.1 实验部分第41-43页
        3.1.1 主要试剂和仪器第41页
        3.1.2 CdS 溶胶的制备第41-42页
        3.1.3 ZnAl–CdS 的制备第42页
        3.1.4 材料的测试与表征第42页
        3.1.5 光催化活性测试第42-43页
    3.2 结果与讨论第43-51页
        3.2.1 XRD 分析第43-44页
        3.2.2 FT-IR 谱第44-45页
        3.2.3 N_2吸附-脱附曲线第45-46页
        3.2.4 UV-Vis DRS 谱第46-47页
        3.2.5 XPS 谱第47-48页
        3.2.6 光电化学性质第48-49页
        3.2.7 光催化活性第49-51页
    3.3 结论第51-53页
第4章 ZnAl–Ti_3O_7的制备及光催化性能第53-66页
    4.1 实验部分第54-55页
        4.1.1 主要试剂和仪器第54页
        4.1.2 H_2Ti_3O_7的制备第54页
        4.1.3 H_2Ti_3O_7纳米片层的制备第54页
        4.1.4 ZnAl–Ti_3O_7的制备第54-55页
        4.1.5 材料的测试与表征第55页
        4.1.6 光催化活性测试第55页
    4.2 结果与讨论第55-64页
        4.2.1 H_2Ti_3O_7纳米片层的表面ζ电位第55页
        4.2.2 XRD 分析第55-56页
        4.2.3 形貌分析第56-58页
        4.2.4 N_2吸附-脱附曲线第58-59页
        4.2.5 UV-Vis DRS 谱第59-60页
        4.2.6 XPS 谱第60-61页
        4.2.7 光电化学性质第61-62页
        4.2.8 光催化活性第62-64页
    4.3 结论第64-66页
第5章 总结第66-68页
    5.1 本论文实验工作的主要结论第66-67页
    5.2 本论文的主要创新点和贡献第67-68页
参考文献第68-82页
致谢第82-84页
个人简历、在学期间发表的学术论文第84页

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