摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 研究背景 | 第10页 |
1.2 异质结光催化原理 | 第10-19页 |
1.2.1 异质结光催化剂研究进展 | 第12-14页 |
1.2.2 影响半导体材料催化性能的因素 | 第14-17页 |
1.2.3 提高光催化效率途径 | 第17-19页 |
1.3 半导体材料的表征与测试方法 | 第19-20页 |
1.4 本论文研究背景及内容 | 第20-22页 |
第二章 实验材料及表征方法 | 第22-26页 |
2.1 实验材料 | 第22-23页 |
2.1.1 主要实验试剂 | 第22页 |
2.1.2 主要仪器 | 第22-23页 |
2.2 光催化材料表征方法 | 第23-26页 |
2.2.1 光催化剂结构和性能的表征 | 第23-24页 |
2.2.2 样品催化性能测试及分析 | 第24-26页 |
第三章 开口空心结构Cu_2O的制备及催化性能研究 | 第26-34页 |
3.1 前言 | 第26-27页 |
3.2 材料合成及光催化性能研究 | 第27-28页 |
3.2.1 实验试剂 | 第27页 |
3.2.2 Cu_2O的合成 | 第27页 |
3.2.3 材料表征 | 第27-28页 |
3.2.4 光催化性能研究 | 第28页 |
3.3 结果与讨论 | 第28-33页 |
3.3.1 XRD分析 | 第28-29页 |
3.3.2 样品形貌分析 | 第29-30页 |
3.3.3 光催化性能 | 第30-33页 |
3.4 本章小结 | 第33-34页 |
第四章 TiO_2的水热制备及光催化性能研究 | 第34-42页 |
4.1 前言 | 第34-35页 |
4.2 材料合成及光催化性能研究 | 第35-36页 |
4.2.1 实验试剂 | 第35页 |
4.2.2 TiO_2的合成 | 第35页 |
4.2.3 材料表征 | 第35-36页 |
4.2.4 光催化性能研究 | 第36页 |
4.3 结果与讨论 | 第36-41页 |
4.3.1 XRD分析 | 第36-37页 |
4.3.2 形貌分析 | 第37-38页 |
4.3.3 光催化性能 | 第38-40页 |
4.3.4 UV-Vis DRS分析 | 第40-41页 |
4.4 本章小结 | 第41-42页 |
第五章 合成具有可见光响应的新型BiVO_4-Cu_2O-TiO_2光催化材料 | 第42-58页 |
5.1 前言 | 第42-43页 |
5.2 材料合成及光催化性能研究 | 第43-45页 |
5.2.1 实验试剂 | 第43页 |
5.2.2 材料合成 | 第43-44页 |
5.2.3 材料表征 | 第44页 |
5.2.4 光催化性能研究 | 第44-45页 |
5.3 结果与讨论 | 第45-57页 |
5.3.1 XRD分析 | 第45-46页 |
5.3.2 形貌表征 | 第46-48页 |
5.3.3 XPS分析 | 第48-49页 |
5.3.4 光催化性能 | 第49-52页 |
5.3.5 光催化机理探讨 | 第52-57页 |
5.4 本章小结 | 第57-58页 |
第六章 结论 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-76页 |
攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |