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HiPIMS/Pulsed DC复合磁控溅射CrAl(Si)N涂层的研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 课题研究背景及意义第9-11页
    1.2 刀具涂层的发展现状第11-14页
        1.2.1 纳米复合涂层的发展历程第11-12页
        1.2.2 纳米复合涂层致硬机理第12-13页
        1.2.3 纳米复合涂层研究现状第13-14页
    1.3 刀具涂层的制备工艺第14-17页
        1.3.1 高功率脉冲与脉冲直流磁控共溅射技术第15-17页
    1.4 CrAlSiN系列涂层研究现状第17-18页
    1.5 本论文研究的内容第18-20页
第2章 实验方法与性能表征第20-27页
    2.1 实验材料第20-21页
        2.1.1 基体材料与夹具第20-21页
        2.1.2 靶材与气体第21页
    2.2 涂层的制备与沉积工艺第21-23页
        2.2.1 技术路线第21页
        2.2.2 HiPIMS/PulsedDCMS系统第21-22页
        2.2.3 影响薄膜生长的主要因素第22-23页
    2.3 涂层组织结构分析第23-24页
        2.3.1 微观形貌及成分分析第23页
        2.3.2 相组成分析第23-24页
    2.4 涂层力学性能表征第24-25页
        2.4.1 硬度及弹性模量第24-25页
        2.4.2 残余应力第25页
    2.5 涂层摩擦学性能表征第25-27页
        2.5.1 磨痕形貌第25-26页
        2.5.2 摩擦系数第26-27页
第3章 不同基体偏压对CrAlN涂层结构和性能的影响第27-38页
    3.1 引言第27-28页
    3.2 涂层制备第28-29页
    3.3 结果与分析第29-37页
        3.3.1 涂层厚度第29-30页
        3.3.2 结构分析第30-31页
        3.3.3 力学性能影响第31-33页
        3.3.4 摩擦学性能影响第33-37页
    3.4 本章小结第37-38页
第4章 不同N2/Ar对CrAlSiN涂层结构和性能的影响第38-50页
    4.1 引言第38-39页
    4.2 涂层制备第39-40页
    4.3 结果与分析第40-48页
        4.3.1 沉积速率影响第40页
        4.3.2 微观结构与形貌第40-43页
        4.3.3 力学性能第43-45页
        4.3.4 摩擦学性能第45-48页
    4.4 本章小结第48-50页
第5章 不同SiAl靶功率对CrAlSiN涂层结构和性能的影响第50-61页
    5.1 引言第50-51页
    5.2 涂层制备第51-52页
    5.3 结果与分析第52-60页
        5.3.1 沉积速率影响第52页
        5.3.2 结构与形貌影响第52-55页
        5.3.3 力学性能影响第55-57页
        5.3.4 摩擦学性能影响第57-60页
    5.4 本章小结第60-61页
结论与展望第61-63页
参考文献第63-68页
致谢第68-69页
攻读学位期间发表论文以及参加会议和项目第69页

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